[发明专利]一种彩膜黑矩阵曝光机及其调节方法

说明书

技术领域

本发明属于液晶显示装置制造技术领域，具体涉及一种彩膜黑矩阵曝光机及其调节方法。

背景技术

在薄膜晶体管液晶显示器的彩色滤光片（Color Filter）制作工艺中，制作黑矩阵（Black Matrix，BM）是第一道工艺。因为玻璃基板上没有对位标记（Alignment Mark），每次曝光前，曝光机的机台需要根据程序设定，通过线性马达的驱动到达指定的曝光位置，再通过激光干涉计的读取，确认曝光机机台的准确位置，并通过掩膜版进行补正，从而确定放置在机台上的玻璃基板相对于掩膜版（曝光时用的模板，曝光机的工作原理是通过光化学反应，将掩膜版的图案转移到玻璃基板上）的位置是准确的。如图1所示，具体地，在机台1上设有反射平面镜条2（Bar Mirror），曝光区的固定主体横梁101上设有参考光平面镜103，曝光机的激光干涉计（图1中未示出）发射两路四束激光光束，第一参考光束104和第二参考光束105射向参考光平面镜103，第一入射激光106和第二入射激光107射向反射平面镜条2，上述光束反射回来后在激光干涉计的分光镜上产生干涉条纹，通过干涉条纹的光强变化计算出机台实际的移动的距离，从而确定机台1移动后的实际位置以及机台1相对于曝光位置的位置偏差。曝光机再通过掩膜版的位置移动对机台1的位置偏差进行补偿，从而保证曝光时机台1相对于掩膜板是严格平行的。

高世代的面板生产中，对尺寸大于掩膜版尺寸的玻璃基板需要多次曝光才能完成，机台的运动路径较为复杂，对机台移动的位置精度提出了更高要求。而为保证生产节拍，机台需要维持较高的运动速度，而机台很重，高速运动中的机台震动比较严重。机台的震动以及使用时间的延长使得反射平面镜条的平坦度逐渐恶化，从而会影响激光干涉计读数的准确性，进而影响机台移动的位置精度，导致产品线幅发生恶化，进一步影响到彩膜基板与阵列基板的对合，产生漏光等不良现象。

生产中，通过调节反射平面镜条的平坦度来保证机台的移动位置精度。通常对反射平面镜条平坦度的调节是根据确定的平坦度数据通过手动调节固定在机台上的螺栓完成的。

发明人发现现有技术中至少存在如下问题：生产中反射平面镜条的平坦度极易发生恶化，对其平坦度的调节是通过手动调节完成的，但每次调节需要花费较长的时间，且调节精度较低，有一定的时效性限制。因此，生产中很难及时地对反射平面镜条的平坦度进行调节以满足曝光机曝光时对正确曝光位置的要求。

发明内容

本发明所要解决的技术问题包括，针对现有的机台上的反射平面镜条的平坦度调节花费时间较长且调节精度较低的问题，提供一种彩膜黑矩阵曝光机及其调节方法，其能够快速准确地调节反射平面镜条的平坦度。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种彩膜黑矩阵曝光机，包括机台、反射平面镜条和激光干涉计，所述机台用于承载待曝光基板，所述激光干涉计包括参考光平面镜，所述参考光平面镜设于曝光区的固定主体横梁上，所述反射平面镜条设于机台上，所述反射平面镜条和参考光平面镜用于对所述激光干涉计发出的激光光束进行接收和反射，所述激光干涉计用于根据接收的反射激光计算机台的实际移动距离，所述曝光机还包括反射平面镜条平坦度的自动校准装置，其用于校准反射平面镜条的平坦度。

优选的是，所述反射平面镜条平坦度的自动校准装置包括：

平坦度测定单元，其用于测定所述反射平面镜条的平坦度；

平坦度自动调节单元，用于调节反射平面镜条的平坦度。

优选的是，所述平坦度测定单元包括激光位移传感器。

进一步优选的是，所述激光位移传感器设于所述激光干涉计上。

优选的是，所述平坦度自动调节单元包括多个线性马达，其设于曝光机的机台上并能够接触反射平面镜条的不同位置。

优选的是，所述平坦度自动调节单元包括多个调节螺栓，其设于曝光机的机台上并能够接触反射平面镜条的不同位置。

本发明的彩膜黑矩阵曝光机包括反射平面镜条平坦度的自动校准装置，自动校准装置能够准确快速地校准反射平面镜条的平坦度。因此，明显缩短了每次调节反射平面镜条平坦度花费的时间，且对平坦度的调节具有较高的精度，生产中或者在每次生产前都能够及时地对反射平面镜条的平坦度进行调节，从而满足了曝光机曝光时对正确曝光位置的要求，提高了产品的生产效率。