[发明专利]一种彩膜黑矩阵曝光机及其调节方法

权利要求书

1.一种彩膜黑矩阵曝光机，包括机台、反射平面镜条和激光干涉计，所述机台用于承载待曝光基板，所述激光干涉计包括参考光平面镜，所述参考光平面镜设于曝光区的固定主体横梁上，所述反射平面镜条设于机台上，所述反射平面镜条和参考光平面镜用于对所述激光干涉计发出的激光光束进行接收和反射，所述激光干涉计用于根据接收的反射激光计算机台的实际移动距离，其特征在于，

所述曝光机还包括反射平面镜条平坦度的自动校准装置，其用于校准反射平面镜条的平坦度。

2.根据权利要求1所述的彩膜黑矩阵曝光机，其特征在于，所述反射平面镜条平坦度的自动校准装置包括：

平坦度测定单元，其用于测定所述反射平面镜条的平坦度；

平坦度自动调节单元，用于调节反射平面镜条的平坦度。

3.根据权利要求2所述的彩膜黑矩阵曝光机，其特征在于，所述平坦度测定单元包括激光位移传感器。

4.根据权利要求3所述的彩膜黑矩阵曝光机，其特征在于，所述激光位移传感器设于所述激光干涉计上。

5.根据权利要求2所述的彩膜黑矩阵曝光机，其特征在于，所述平坦度自动调节单元包括多个线性马达，有导轨可以沿平行于反射平面镜条的方向移动，其设于曝光机的机台上并能够接触反射平面镜条的不同位置。

6.根据权利要求2所述的彩膜黑矩阵曝光机，其特征在于，所述平坦度自动调节单元包括多个调节螺栓，其设于曝光机的机台上并能够接触反射平面镜条的不同位置。

7.一种彩膜黑矩阵曝光机的调节方法，所述曝光机包括反射平面镜条和激光干涉计，所述反射平面镜条设于机台上，用于对所述激光干涉计发出的激光光束进行反射，其特征在于，

所述调节方法包括如下步骤：应用反射平面镜条平坦度的自动校准装置校准反射平面镜条的平坦度。

8.根据权利要求7所述的彩膜黑矩阵曝光机的调节方法，其特征在于，所述应用反射平面镜条平坦度的自动校准装置校准反射平面镜条的平坦度包括：

激光位移传感器确定反射平面镜条的平坦度数据；

平坦度自动调节单元根据所述平坦度数据调节平面反射镜条的平坦度。

9.根据权利要求8所述的彩膜黑矩阵曝光机的调节方法，其特征在于，所述平坦度自动调节单元包括多个线性马达或包括多个调节螺栓。

10.根据权利要求7所述的彩膜黑矩阵曝光机的调节方法，其特征在于，所述调节方法还包括激光位移传感器对调节平坦度后的反射平面镜条进行平坦度再确认的步骤。