[发明专利]光阻墙成型方法

权利要求书

1.一种光阻墙成型方法，其特征是，包括以下步骤：

（a）使用注塑技术成型一块平板，平板的正面具有第一凸台（1）和第二凸台（2），所述第一凸台（1）为网格状，每个网格内具有一个第二凸台（2），在第一凸台（1）和第二凸台（2）之间由凹槽分隔，所述第一凸台（1）的高度大于第二凸台（2），高度差大于20微米；所述第一凸台（1）表面平整度小于5微米；所述平板的材料选自酚醛树脂、苯并恶嗪树脂、氰酸树脂、聚酰亚胺、双马来酰亚胺、聚苯醚、聚醚醚酮在内的封装树脂及其改性材料；

（b）将所述平板正面滚胶并与第一基板（3）压合，使得所述第一凸台（1）粘贴在所述第一基板（3）上；所述第一基板（3）为透光率95%以上的透明基板；

（c）对平板背面进行碾磨减薄，直至第一凸台（1）和第二凸台（2）底部分离；

（d）去除残留在第一基板（3）上的第二凸台（2），并清洗去除第一凸台（1）上的残留物，形成光阻墙结构；

将步骤（d）得到的光阻墙结构与第二基板（5）键合，使得第一基板（3）和第二基板（5）之间由第一凸台（1）密封形成了多个腔体（4）；所述第二基板（5）为具有走线的集成电路基板。