[发明专利]导电薄膜、其制备方法及应用在审
| 申请号: | 201310634785.3 | 申请日: | 2013-11-30 |
| 公开(公告)号: | CN104674165A | 公开(公告)日: | 2015-06-03 |
| 发明(设计)人: | 周明杰;陈吉星;黄辉;王平 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/28;C23C14/26;B32B9/00 |
| 代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 导电 薄膜 制备 方法 应用 | ||
1.一种导电薄膜,其特征在于,包括层叠的TiO2-xFx层及Me2O层,其中,TiO2-xFx层是氟掺杂氧化钛的薄膜层,Me2O层为氧化钠,氧化钾,氧化铷或氧化铯的薄膜层,其中,x为0.1~0.6。
2.根据权利要求1所述的导电薄膜,其特征在于,所述TiO2-xFx层为纳米线结构,纳米直径为20~200nm。
3.根据权利要求1所述的导电薄膜,其特征在于,所述TiO2-xFx层的厚度为80nm~400nm,所述Me2O层的厚度为0.5nm~10nm。
4.一种导电薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
将TiO2-xFx靶材及衬底装入脉冲激光沉积设备的真空腔体,真空腔体的真空度为1.0×10-3Pa~1.0×10-5Pa,TiO2-xFx层是氟掺杂氧化钛的靶材,其中,x为0.1~0.6;
在所述衬底表面沉积TiO2-xFx层,沉积所述TiO2-xFx层的工艺参数为:基靶间距为45mm~95mm,脉冲激光能量为80mJ~300mJ,工作压强3Pa~30Pa,惰性工作气体的流量为10sccm~40sccm,衬底温度为250℃~750℃,得到TiO2-xFx层是氟掺杂氧化钛的薄膜层,x为0.1~0.6;
在所述TiO2-xFx层表面蒸镀Me2O层,蒸镀所述Me2O层的工艺参数为:采用Me2CO3的材料在压强5.0×10-3Pa~5.0×10-4Pa,温度为600℃~800℃,蒸镀速率为0.3nm/s~5nm/s的条件下进行蒸镀,其中,Me2CO3的材料为碳酸钠,碳酸钾,碳酸铷,碳酸铷和碳酸铯中至少一种,得到Me2O层为氧化钠,氧化钾,氧化铷或氧化铯的薄膜层;及
剥离所述衬底,得到所述导电薄膜。
5.根据权利要求4所述的导电薄膜的制备方法,其特征在于,所述TiO2-xFx层的厚度为80nm~400nm,所述Me2O层的厚度为0.5nm~10nm。
6.根据权利要求4所述的导电薄膜的制备方法,其特征在于,所述TiO2-xFx靶材由以下步骤得到:称取TiO2和TiF4粉体混合均匀得到混合物,其中,TiF4占混合物的摩尔百分数为2.6%~17.6%,将混合均匀的粉体在900℃~1300℃下烧结制成靶材。
7.一种有机电致发光器件的基板,其特征在于,包括依次层叠的衬底、TiO2-xFx层及Me2O层,其中,TiO2-xFx层是氟掺杂氧化钛的薄膜层,Me2O层为氧化钠,氧化钾,氧化铷或氧化铯的薄膜层,其中,x为0.1~0.6。
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