[发明专利]一种低功耗有机电致发光显示器件及制作方法

权利要求书

1.一种低功耗有机电致发光显示器件的制作方法，其特征在于，包括步骤：

S1、自透明基板向上方向，在所述透明基板上依次形成第一透明导电层、金属层、第二透明导电层，并对所述第二透明导电层表面涂覆光刻胶，且所述第一透明导电层和第二透明导电层材料相同，且均为低温非晶形态薄膜；

S2、采用第一掩膜板进行曝光显影，并采用第一刻蚀液同时刻蚀所述第一透明导电层、金属层和第二透明导电层，形成第一电极走线电极和第二电极走线电极；

S3、形成第一电极，并对第一透明导电层和第二透明导电层进行高温退火；

S4、自所述第一电极向上方向，在所述第一电极上依次形成空穴传输层、有机发光层、电子传输层和第二电极，所述第二电极与所述第二电极走线电极导通。

2.根据权利要求1所述的低功耗有机电致发光显示器件的制作方法，其特征在于，所述第一刻蚀液为磷酸、硝酸、醋酸和水溶液，或过硫酸钠、磷酸和水溶液。

3.根据权利要求1所述的低功耗有机电致发光显示器件的制作方法，其特征在于，所述步骤S2还包括：

形成第一电极前期结构，所述第一电极前期结构包括具有第一电极形状的所述第一透明导电层、金属层和第二透明导电层。

4.根据权利要求3所述的低功耗有机电致发光显示器件的制作方法，其特征在于，所述步骤S3中形成所述第一电极具体包括：

去除剩余所述光刻胶，对所述透明基板朝向所述第一透明导电层一侧的表面、所述第一透明导电层所述金属层和所述第二透明导电层裸露的表面重新涂覆光刻胶，并采用第二掩膜板进行曝光显影，采用第二刻蚀液刻蚀掉所述第一电极前期结构的第二透明导电层，采用第三刻蚀液刻蚀掉所述第一电极前期结构的金属层，形成所述第一电极。

5.根据权利要求4所述的低功耗有机电致发光显示器件的制作方法，其特征在于，所述金属层为铜层、铜合金层、银层、银合金层、铝层、铝合金层、铬层、钼层、锌层或镁层。

6.根据权利要求5所述的低功耗有机电致发光显示器件的制作方法，其特征在于，所述金属层为铜层，所述第二刻蚀液为草酸和水溶液，所述第三刻蚀液为醋酸、双氧水和水溶液。

7.根据权利要求5所述的低功耗有机电致发光显示器件的制作方法，其特征在于，所述金属层为银层，所述第二刻蚀液为草酸和水溶液，所述第三刻蚀液为氨水、双氧水和水溶液。

8.根据权利要求5所述的低功耗有机电致发光显示器件的制作方法，其特征在于，所述金属层为铝层或镁层，所述第二刻蚀液为草酸和水溶液，所述第三刻蚀液为氢氧化钠和水溶液。

9.一种低功耗有机电致发光显示器件，包括透明基板，以及位于所述透明基板上的第一电极、第一电极走线电极和第二电极走线电极，其特征在于，所述第一电极走线电极和第二电极走线电极均包括三层导电层，自所述透明基板向上依次为第一导电层、第二导电层和第三导电层，所述第一导电层和所述第三导电层与所述第一电极的材料相同，所述第二导电层为金属层。

10.根据权利要求9所述的低功耗有机电致发光显示器件，其特征在于，所述第一电导电层和第三导电层均为ITO导电层或IZO导电层，所述第二导电层为铜层、铜合金层、银层、银合金层、铝层、铝合金层、铬层、钼层、锌层或镁层。

11.根据权利要求9所述的低功耗有机电致发光显示器件，其特征在于，所述透明基板为玻璃基板、塑料基板或树脂基板。

12.根据权利要求9所述的低功耗有机电致发光显示器件，其特征在于，所述第一导电层厚度为50～300nm，包括端点值；所述第二导电层厚度为100～500nm，包括端点值；所述第三导电层厚度为5～100nm，包括端点值。