[发明专利]外壳及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201310614634.1 申请日: 2013-11-28
公开(公告)号: CN104669709A 公开(公告)日: 2015-06-03
发明(设计)人: 张春杰 申请(专利权)人: 深圳富泰宏精密工业有限公司
主分类号: B32B15/04 分类号: B32B15/04;B32B9/04;C23C14/35;C23C14/06;H05K5/04
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地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 外壳 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种外壳及其制造方法,尤其涉及一种表面形成有透明膜的外壳及其制造方法。

背景技术

随着科技的迅速演进,移动电话、个人计算机等3C产品和汽车电子产品的发展迅速,市场上所出现的高光、高亮度、多样化的外壳及表面具有金属外观的产品普遍得到消费者的青睐。为了使电子产品呈现良好的亮度和光洁度,通常使用喷涂等传统的制作工艺于电子产品表面形成透明膜。然而,这些传统的制作工艺复杂,且制作的透明膜光洁度较低,耐磨损性能较差,使用寿命较短。

发明内容

有鉴于此,有必要提供一种外壳,其表面形成有高光、高亮度的透明膜。

另外,还有必要提供一种上述外壳的制造方法。

一种外壳,其包括基材和形成于基材表面的透明膜,该透明膜包括打底层、形成于打底层表面的过渡层及形成于过渡层表面的透明层,该打底层为铬层,该过渡层为碳化铬层,该透明层为硅层,该打底层形成于所述基材的表面,该过渡层形成于该打底层的表面,该透明层形成于该过渡层的表面。

一种外壳的制造方法,其包括如下步骤:

提供基材;

以铬靶为靶材,采用磁控溅射法在基材表面溅镀打底层,该打底层为铬层;

以铬靶为靶材,通入反应气体乙炔,采用磁控溅射法在打底层的表面溅镀过渡层,该过渡层为碳化铬层;

以硅靶为靶材,采用磁控溅射法在过渡层的表面溅镀透明层,该透明层为硅层。

本发明采用特殊的靶材组合,配合新的PVD镀膜工艺,制备出具有透明膜的外壳,所述透明膜具有高光亮度,使外壳的表面具有较高的亮度和光洁度。另,使用磁控溅射法在基体表面依次溅镀打底层、过渡层和透明层,膜层之间逐层过渡较好,膜层内部没有明显的应力产生,这样在施加外力时,透明膜不易被破坏,可呈现良好的硬度和耐磨性,延长了外壳的使用寿命。

附图说明

图1为本发明一较佳实施例的外壳的剖视图。

图2为本发明一较佳实施例真空镀膜机的俯视示意图。

主要元件符号说明

金属外壳100基材20透明膜10打底层13过渡层15透明层17真空镀膜机200镀膜室21铬靶23硅靶24轨迹25真空泵300

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。

具体实施方式

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