[发明专利]外壳及其制造方法在审
申请号: | 201310614634.1 | 申请日: | 2013-11-28 |
公开(公告)号: | CN104669709A | 公开(公告)日: | 2015-06-03 |
发明(设计)人: | 张春杰 | 申请(专利权)人: | 深圳富泰宏精密工业有限公司 |
主分类号: | B32B15/04 | 分类号: | B32B15/04;B32B9/04;C23C14/35;C23C14/06;H05K5/04 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 外壳 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种外壳及其制造方法,尤其涉及一种表面形成有透明膜的外壳及其制造方法。
背景技术
随着科技的迅速演进,移动电话、个人计算机等3C产品和汽车电子产品的发展迅速,市场上所出现的高光、高亮度、多样化的外壳及表面具有金属外观的产品普遍得到消费者的青睐。为了使电子产品呈现良好的亮度和光洁度,通常使用喷涂等传统的制作工艺于电子产品表面形成透明膜。然而,这些传统的制作工艺复杂,且制作的透明膜光洁度较低,耐磨损性能较差,使用寿命较短。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种外壳,其表面形成有高光、高亮度的透明膜。
另外,还有必要提供一种上述外壳的制造方法。
一种外壳,其包括基材和形成于基材表面的透明膜,该透明膜包括打底层、形成于打底层表面的过渡层及形成于过渡层表面的透明层,该打底层为铬层,该过渡层为碳化铬层,该透明层为硅层,该打底层形成于所述基材的表面,该过渡层形成于该打底层的表面,该透明层形成于该过渡层的表面。
一种外壳的制造方法,其包括如下步骤:
提供基材;
以铬靶为靶材,采用磁控溅射法在基材表面溅镀打底层,该打底层为铬层;
以铬靶为靶材,通入反应气体乙炔,采用磁控溅射法在打底层的表面溅镀过渡层,该过渡层为碳化铬层;
以硅靶为靶材,采用磁控溅射法在过渡层的表面溅镀透明层,该透明层为硅层。
本发明采用特殊的靶材组合,配合新的PVD镀膜工艺,制备出具有透明膜的外壳,所述透明膜具有高光亮度,使外壳的表面具有较高的亮度和光洁度。另,使用磁控溅射法在基体表面依次溅镀打底层、过渡层和透明层,膜层之间逐层过渡较好,膜层内部没有明显的应力产生,这样在施加外力时,透明膜不易被破坏,可呈现良好的硬度和耐磨性,延长了外壳的使用寿命。
附图说明
图1为本发明一较佳实施例的外壳的剖视图。
图2为本发明一较佳实施例真空镀膜机的俯视示意图。
主要元件符号说明
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳富泰宏精密工业有限公司;,未经深圳富泰宏精密工业有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310614634.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:具有加强芯部的复合结构及其制造方法
- 下一篇:一种防水复合面料