[发明专利]一种制造防滑釉面砖的方法有效

专利信息
申请号: 201310614314.6 申请日: 2013-11-28
公开(公告)号: CN103588510A 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 史亮亮;杜贵平;钟思聪;廖波;刘章宝;毛星华 申请(专利权)人: 广东金牌陶瓷有限公司
主分类号: C04B41/86 分类号: C04B41/86;C04B41/89
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地址: 528131 广东省佛山市三水区白坭镇*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 制造 防滑 釉面砖 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种建筑陶瓷产品制造方法,尤其涉及一种制造防滑釉面砖的方法。

背景技术

釉面砖是一种被广泛使用的建材产品。通过在砖坯表面施釉烧成,获得丰富的装饰效果,而且釉面防污,易清洁,特别适用于水汽较重和污渍较多的厨房和卫生间装修。对于印花系列产品,还可以通过釉面来保护印花层不被磨损。然而釉面产品多为平面装饰,而且光滑平整的釉面不防滑,不适用于地面铺贴。为此,人们通过在模具上设置具有凹凸纹路的防滑纹,使得冲压出的砖坯也有相应的纹路,但施釉后,防滑纹路会变得模糊,这种方式也不能在砖面形成密集的防滑凸起,而且在坯体表面的凹凸纹路也容易造成断釉、缺釉等缺陷。

发明内容

本发明的目的在于提出一种防滑釉面砖及其制造方法,本发明通过在坯体上布施一层粒度≤20目的高温透明熔块粉,高温透明熔块在烧成时不完全熔融,熔块颗粒软化彼此熔结形成透明面釉层,而因为没有完全熔融铺展,所以能在透明面釉层上形成防滑凸起,如此结构较现有的釉面砖具有更好的防滑效果,适用于地面装饰铺贴,并且不影响坯体上印花形成的装饰效果。

为达此目的,本发明采用以下技术方案:一种防滑釉面砖,其由下至上包括坯体层,印花层,透明面釉层,其中所述透明面釉层上具有高度为0.1mm~0.6mm防滑凸起,所述防滑凸起彼此间的间距≤2mm。在本方案中,所述防滑凸彼此间距离是指相邻的两个防滑凸起间距离。

在上述防滑釉面砖中,优选地,所述防滑凸起彼此间的间距为0.2mm~0.5mm。

为了避免坯体层内的杂质在烧成时对印花层造成影响,优选地,在上述防滑釉面砖中,在坯体层和印花层之间还包括底釉层。

为了使得制造工艺更为简单,避免断釉或缺釉缺陷,在上述防滑釉面砖中,所述坯体层上表面为平面。

本发明还提供一种制造上述防滑釉面砖的方法:其包括如下步骤:

步骤1):印花;选择干燥后的陶瓷坯体,在其表面进行印花,形成印花层;

步骤2):布施高温透明熔块;将粒径≤20目的高温透明熔块颗粒布施在经步骤1)印花后的坯体表面;

步骤3:入窑烧成;在辊道窑氧化气氛下对步骤2)布施高温透明熔块颗粒的坯体进行烧成,烧成温度为1150℃~1230℃,烧成周期为80~120分钟;

步骤4:磨边倒角;待步骤3)烧成的砖坯冷却后,磨边倒角后即可得到防滑釉面砖成品。

优选地,上述高温透明熔块的流动温度>1250℃、半球温度范围与步骤3)所述烧成温度范围相同。在以上条件下,可以保证高温透明熔块不完全熔融效果,使得形成的透明面釉层与坯体有较好的结合力,又可以形成防滑效果好的防滑凸起。

为了能避免坯体层中的杂质对印花层的影响,优选地,在上述方法中,在步骤1)印花前,先在坯体表面布施一层乳浊底釉。乳浊底釉主要起遮盖作用,烧后白度≥80度,其可以选择锆基乳浊釉,也可以选择磷硼或硼钙多相乳浊釉。

因为辊道窑窑头风机抽力较大,而步骤2)中布施的高温透明熔块粒度小,很容易被吸走,因此在步骤2)中布施高温透明熔块后,还包括一个喷洒固定剂的工序。固定剂能将高温透明熔块固定在坯体上,固定剂可以选择羧甲基纤维素水溶液等。

当然,还可以采用如下方案解决因为辊道窑窑头风机抽力较大,高温透明熔块被吸走的问题。可以将步骤2)中使用粒径≤30目的高温透明熔块颗粒为加入比重为1.6~1.9的透明釉浆料中,搅拌均匀后形成的混合料,将其布施于经步骤1)印花后的坯体表面,形成的釉层厚度≤0.5mm(对应地,烧成形成的透明面釉层的厚度也≤0.5mm,如果透明面釉层过厚,透明高温熔块颗粒很难凸出形成防滑凸起),其中高温透明熔块颗粒和透明釉浆料的质量比为1:1~5。这样,在步骤3)入窑烧成时,因高温透明熔块是包裹在釉层中,因此不会被窑头风机吸走,在烧成时釉料熔融,因烧成温度低于高温透明熔块的流动温度,所以高温透明熔块在烧后会分散在透明面釉层上并形成防滑凸起。

这里需要对以上高温透明熔块做如下说明:在建筑陶瓷生产领域,熔块是指一种玻璃态物质,其可以作为釉的主要原料,在业内通常将适用于烧成温度1100℃下的熔块称为低温熔块;适用于烧成温度1100℃~1250℃的熔块称为中温熔块;适用于烧成温度1250℃以上的熔块称为高温熔块。而熔块烧成后呈现的透光度则作为区分其种类的另一种方式,能透过大部分光的称为透明熔块;透光率很低甚至完全不透光的称为乳浊熔块;介于两者之间的称为半透明熔块。在本发明中提到的高温透明熔块可参照此段解释。

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