[发明专利]MWT与背钝化结合的晶硅太阳能电池及其制造方法

权利要求书

1.一种MWT与背钝化结合的晶硅太阳能电池，其特征在于包括：依次叠加的钝化膜、磷扩散层、P型硅基体、氧化铝薄膜、叠层保护膜和铝印刷层结构，上述结构上具有贯通孔，孔内穿装有灌孔银电极，孔壁与灌孔银电极之间覆盖有介质薄膜，所述灌孔银电极的顶部覆盖有正面银电极，所述铝印刷层上具有间隔的凸起，所述凸起穿过叠层保护膜和氧化铝薄膜并与P型硅基体形成局域铝背场接触。

2.如权利要求1所述的MWT与背钝化结合的晶硅太阳能电池，其特征在于：所述磷扩散层为n型层，其方阻值为30-120ohm/sq。

3.如权利要求1所述的MWT与背钝化结合的晶硅太阳能电池，其特征在于：所述钝化膜为SiNx或SiOx减反射钝化膜。

4.如权利要求1所述的MWT与背钝化结合的晶硅太阳能电池，其特征在于：所述氧化铝薄膜厚度为1-100nm。

5.如权利要求1所述的MWT与背钝化结合的晶硅太阳能电池，其特征在于：所述叠层保护膜为SiNx、SiCx或TiOx。

6.如权利要求1所述的MWT与背钝化结合的晶硅太阳能电池的制造方法，其特征在于包括以下步骤：

1）激光钻孔；

2）硅片去损伤并制绒，制绒面为激光末端面；

3）扩散；

4）去除背面磷硅玻璃，并实现背面抛光；

5）背面氧化铝薄膜和叠层保护膜生长；

6）正面减反射薄膜生长；

7）背面背面氧化铝薄膜和叠层保护膜开孔；

8）在背面印刷灌孔浆料；

9）在背面印刷背银；

10）印刷背铝，正银，烧结，测试。

7.如权利要求6所述的制造方法，其特征在于：所述步骤4）中采用在线滚轮式设备单面去除背面磷硅玻璃。

8.如权利要求6所述的制造方法，其特征在于：所述步骤7）中的开孔方法而为腐蚀性浆料开孔或者激光开孔。

9.如权利要求6所述的制造方法，其特征在于：所述步骤8）和步骤9）同时采用同种浆料印刷。

10.如权利要求6所述的制造方法，其特征在于：所述步骤10）中烧结采用激光烧结法形成背面点接触。