[发明专利]一种绕线贴片电感电极面的真空多弧磁控镀膜方法

权利要求书

1.一种绕线贴片电感电极面的真空多弧磁控镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、将绕线贴片电感的磁蕊采用夹具进行封装，露出待镀膜的电极面；

步骤二、将封装好的磁蕊送入真空室，真空室的真空度不小于5.0×10^-3帕，同时室内温度加至260～300℃后，向真空室内充入氩气，使真空室内压力保持在2帕，进行离子轰击清洗6～10分钟；

步骤三、清洗后的磁蕊进入第一镀膜室，充入氩气使第一镀膜室的真空度保持在3.0～5.0×10^-1帕，开启偏压，电压调至150V～250V，占空比调至30％～80％，再开启多弧靶镀铬，靶电流为50A～80A，镀膜时间为4～10分钟；

步骤四、再进入第二镀膜室，充入氩气使第二镀膜室的真空度保持在3.0～5.0×10^-1帕，开启偏压，电压调至80V～150V，占空比调至30％～60％，开启多弧靶镀铬，靶电流为50A～80A，镀膜时间为4～10分钟；

步骤五、再进入第三镀膜室，充入氩气使第三镀膜室的真空度保持在3.0～5.0×10^-1帕，开启偏压，电压调至80V～150V，占空比调至30％～60％，开启直流磁控靶镀镍铬合金，镍铬合金的镍铬比例为8∶2，靶电流为25A～40A，镀膜时间为4～10分钟；

步骤六、镀镍铬合金完毕后进入第四镀膜室，充入氩气使第四镀膜室的真空度保持在3.0～5.0×10^-1帕，开启偏压，电压调至80V～150V，占空比调至30％～60％，开启直流磁控靶镀镍，靶电流为25A～40A，镀膜时间为4～10分钟；

步骤七、镀镍完毕后再进入第七镀膜室，充入氩气使第七镀膜室的真空度保持在3.0～5.0×10^-1帕，开启偏压，电压调至80V～150V，占空比调至30％～60％，开启直流磁控靶镀纯银，靶电流为1～3A，镀膜时间为4～10分钟；

步骤八、镀银完毕后，进入真空缓冲室进行冷却，直至温度降到100℃以下充入空气出炉，电极面镀制完毕。

2.如权利要求1所述的绕线贴片电感电极面的真空多弧磁控镀膜方法，其特征在于，所述步骤一中的绕线贴片电感的磁蕊采用夹具进行封装前，先将所述磁蕊进行除油清洗，然后用超纯水漂洗干净，再放入烤箱中烘干水分。

3.如权利要求1或2所述的绕线贴片电感电极面的真空多弧磁控镀膜方法，其特征在于，经过所述步骤六中的第四镀膜室进行镀镍后再进入第五镀膜室，充入氩气使第五镀膜室的真空度保持在3.0～5.0×10^-1帕，开启偏压，电压调至80V～150V，占空比调至30％～60％，开启直流磁控靶镀镍，靶电流为25A～40A，镀膜时间为4～10分钟。

4.如权利要求3所述的绕线贴片电感电极面的真空多弧磁控镀膜方法，其特征在于，经过所述第五镀膜室进行镀镍后再进入第六镀膜室，充入氩气使第六镀膜室的真空度保持在3.0～5.0×10^-1帕，开启偏压，电压调至80V～150V，占空比调至30％～60％，开启直流磁控靶镀镍，靶电流为25A～40A，镀膜时间为4～10分钟。