[发明专利]具有多层复合电镀层的稀土永磁体及其复合电镀的方法

权利要求书

1.一种具有多层复合电镀层的稀土永磁体，所述具有多层复合电镀层的稀土永磁体包括稀土永磁体、第一层镍镀层、第二层铜镀层、第三层镍镀层、第四层枪黑色锡镍镀层；其中，镀层总厚度不大于30μm，第一层的厚度≤5μm，所述第二层的厚度≤10μm，第三层的厚度≤20μm；所述第一层镍镀层的电镀液是采用瓦特镍的配方制得，所述电镀液的温度范围为35～60℃；所述第二层铜镀层的电镀液是采用焦磷酸铜镀液的配方制得，所述电镀液的温度范围为35～60℃；所述第三层镍镀层的电镀液是采用市售光亮剂配制成半光亮镍电镀液和/或光亮镍电镀液，所述半光亮镍电镀液或光亮镍电镀液的温度范围为60℃；所述第四层枪黑色锡镍镀层的电镀液包括：焦磷酸亚锡40～60克/升、氯化镍30～45克/升、焦磷酸钾250～320克/升、甘氨酸20克/升，所述第四层枪黑色锡镍镀层的电镀液的温度为20℃、24℃、25℃。

2.根据权利要求1所述的稀土永磁体，其中，所述第四层枪黑色锡镍镀层的电镀时间为1～5分钟 ，所述电镀液的pH为7.0～8.5。

3.根据权利要求1所述的稀土永磁体，其中，所述第一层镍镀层的所述电镀液的pH值范围为3.5～5.5，并且Ni²⁺浓度范围为1.0～2.0mol/L；所述第二层铜镀层的所述电镀液的pH值范围为7.0～9.5，并且Cu²⁺浓度范围为0.3～0.6mol/L；所述第三层镍镀层的所述半光亮镍电镀液的pH值范围为4.0，并且Ni²⁺浓度范围为1.5～2.0mol/L；所述光亮镍电镀液的pH值范围为3.5～4.5，并且Ni²⁺浓度范围为2.0mol/L。

4.一种制备如权利要求1～3任一所述稀土永磁体的复合电镀方法，所述复合电镀方法包括如下步骤：

(1)采用机械振磨、滚磨倒角对钕铁硼永磁材料进行常规磨光；

(2)脱脂除油：加入碱性除油剂进行常规脱脂除油；

(3)酸洗除锈：再加入酸性溶液进行常规酸洗除锈；

(4)四层复合电镀：先镀第一层镍镀层，再镀第二层铜镀层，在第二层铜镀层上镀第三层镍镀层以及

(5)最后再镀第四层枪黑色锡镍镀层；

其中，镀层总厚度不大于30μm，所述第一层镍镀层的电镀液是采用瓦特镍的配方制得，所述电镀液的温度范围为35～60℃；所述第二层铜镀层的电镀液是采用焦磷酸铜镀液的配方制得，所述电镀液的温度范围为35～60℃；所述第三层镍镀层的电镀液是采用市售光亮剂配制成半光亮镍电镀液和/或光亮镍电镀液，所述半光亮镍电镀液或光亮镍电镀液的温度范围为60℃；所述第四层枪黑色锡镍镀层的电镀液包括：焦磷酸亚锡40～60克/升、氯化镍30～45克/升焦磷酸钾、250～320克/升、甘氨酸20克/升，所述第四层枪黑色锡镍镀层的电镀液的温度为20℃、24℃、25℃。

5.根据权利要求4所述的复合电镀方法，其中，所述第四层镍镀层的电镀时间为1～5分钟 ，所述电镀液的pH为7.0～8.5。

6.根据权利要求4所述的复合电镀方法，其中，所述第一层镍镀层的所述电镀液的pH值范围为3.5～5.5，并且Ni²⁺浓度范围为1.0～2.0mol/L；所述第二层铜镀层的所述电镀液的pH值范围为7.0～9.5，并且Cu²⁺浓度范围为0.3～0.6mol/L；所述第三层镍镀层的所述半光亮镍电镀液的pH值范围为4.0，并且Ni²⁺浓度范围为1.5～2.0mol/L；所述光亮镍电镀液的pH值范围为3.5～4.5，并且Ni²⁺浓度范围为2.0mol/L。