[发明专利]固相合成布舍瑞林的方法有效

专利信息
申请号: 201310557778.8 申请日: 2013-11-11
公开(公告)号: CN103554229A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 沙乐;崔贞亮;孙慕懿;顾声隆;胡成良 申请(专利权)人: 宁波市三生药业有限公司
主分类号: C07K7/23 分类号: C07K7/23;C07K1/06;C07K1/04;C08F112/08;C08F212/08;C08F120/56;C08F8/30
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 竺路玲
地址: 315100 浙江省宁波*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 相合 成布舍瑞林 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种布舍瑞林的合成方法,尤其涉及一种纯度高、高收率的合成布舍瑞林的方法。

背景技术

布舍瑞林(Buserelin)是一种水溶性多肽类药物,为下丘脑分泌的天然促性腺激素释放激素(GnRH/LHRH)类似物,可促进黄体生成激素LH、促卵胞生成激素FSH和性激素分泌增加,药理效应为LHRH的20-170倍,长期给予布舍瑞林可以抑制绒促性素的生成,并抑制卵巢和睾丸类固醇的生成。布舍瑞林的主要临床应用包括姑息治疗激素依赖的前列腺癌(D期)、乳腺癌、无需手术治疗的子宫内膜异位症等疾病的治疗。

布舍瑞林结构为Pyr-His-Trp-Ser-Tyr-D-Ser(tBU)-Leu-Arg-Pro-NH-Et,现有的合成布舍瑞林的方法主要有两种:

第一种是片段缩合法,即将布舍瑞林拆分成几个片段(如两个)分别合成,所合成的各个裸肽片段在液相条件下进行偶联,如CN101735308A公开的4+5片段合成方法,先合成五片段Pyr-His-Trp-Ser-Tyr-OH和四片段D-Ser(tBU)-Leu-Arg-Pro-NHEt,然后缩合得到布舍瑞林。这种片段缩合方法的缺陷非常明显,工艺操作繁琐;更重要的是,片段偶联过程中,多肽发生消旋反应的现象比较严重;另外且最终收率较低。

第二种是全序列部分保护合成方法,即在固相合成过程中,对部分氨基酸侧链进行保护,并最终在液相中实现乙氨基化,此工艺虽然实现在固相载体上的全序列合成,但是由于采用的是部分保护,所以合成过程中引入的杂质较多,出产品的质量很差,纯化过程中较难分离,很难得到高质量的产品,且综合收率不高。

CN101935339A公开了一种全保护合成布舍瑞林的方法,固相合成布舍瑞林后,裂解去除树脂,然后将全保护肽经过乙氨基化、裂解脱除保护基的步骤得到布舍瑞林,该方法无论是乙氨基化过程,在冰水浴条件下进行,不适于工业化操作。WO2008/044890公开了一种合成布舍瑞林的方法,分别合成Pro-NH-Et和Pyr-His-Trp-Ser-Tyr-D-Ser(tBU)-Leu-Arg-OH,然后偶联、去除保护基获得布舍瑞林;该方法先通过氨基酸偶联获得肽链,之后先脱除树脂,然后再偶联氨基酸Pro-NH-Et,实际操作过程中,工艺变化非常繁琐。

发明内容

针对现有技术中合成布舍瑞林的方法产率低、纯度低、和操作繁琐的问题,本发明提供了一种新的合成布舍瑞林的方法。

本发明提供了一种固相合成布舍瑞林的方法,步骤包括:

步骤1,提供如结构式(I)乙胺基载体树脂EtNH-Supporting Resin;

步骤2,以所述乙胺基载体树脂为固相合成多肽树脂,偶联Fmoc-Pro-OH,脱除保护基,得到NH2-Pro-EtN-Supporting Resin;

步骤3,NH2-Pro-EtN-Supporting Resin与Fmoc-Arg(PG1)-OH偶联得到NH2-Arg(PG1)-Pro-NEt-Supporting Resin;其中,PG1为Arg侧链保护基团;

步骤4,依次偶联布舍瑞林肽链中的其它氨基酸,得到Pyr-His(PG6)-Trp(PG5)-Ser(PG4)-Tyr(PG3)-D-Ser(tBU)-Leu(PG2)-Arg(PG1)-Pro-NEt-Supporting Resin;其中,PG1至PG6分别独立的为氨基酸侧链保护基团,或者不存在;

步骤5,酸性条件下进行裂解脱除载体树脂,得到全保护肽:

Pyr-His(PG6)-Trp(PG5)-Ser(PG4)-Tyr(PG3)-D-Ser(tBU)-Leu(PG2)-Arg(PG1)-Pro-NHEt;

步骤6,所述全保护肽通过氢化反应脱除PG1至PG6,得到布舍瑞林。

在本发明所述的方法中,所述载体树脂中的polymer可以是任意用于固相合成多肽的树脂聚合物中的一种或几种,并优选为聚苯乙烯、苯乙烯-苯二乙烯交联树脂、聚丙烯酰胺、聚乙烯-乙二醇树脂等,并优选为聚苯乙烯(PS)。

在本发明所述的方法中,步骤1中所述合成的载体树脂EtNH-Supporting Resin中,乙胺基取代度优选为0.8-1.0mmol/g,即可以含有部分未取代乙胺基的载体树脂。

其中,所述EtNH-Supporting Resin的合成方法优选为:

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