[发明专利]具有金属-有机层的多层复合体有效

专利信息
申请号: 201310547302.6 申请日: 2013-11-06
公开(公告)号: CN103824614B 公开(公告)日: 2018-10-26
发明(设计)人: H·富赫斯;H·S·何;K·蒂姆特尔;J·李;B·李;C·J·韩;S·李 申请(专利权)人: 赫劳斯贵金属有限两和公司;韩国电子技术研究院
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01L23/488;H01L23/60;H01L21/48
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 肖威;刘金辉
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 金属 有机 多层 复合体
【权利要求书】:

1.一种多层复合体前体(2),其包含:

i.基材(4),其中基材(4)包含:

1.有机发光化合物,

2.第一表面(8),和

3.第二表面(10),

其中第二表面(10)上层叠有透明导电层;

ii.层叠在第一表面(8)的至少一部分之上的液相(18),其包含金属-有机化合物,其中所述金属-有机化合物包含有机结构部分,其中所述有机结构部分包含C=O基;且其中液相(18)进一步包含第一硅化合物,其中所述第一硅化合物包含至少一个碳原子和至少一个氮原子。

2.根据权利要求1的多层复合体前体(2),其中所述金属-有机化合物的有机结构部分选自碳酸根、酯、羧酸根、卤代羧酸根、羟基羧酸根、丙酮酸根、酮根或其至少两种的混合物。

3.根据权利要求2的多层复合体前体(2),其中所述金属-有机化合物的有机结构部分选自草酸根。

4.根据权利要求1的多层复合体前体(2),其中所述金属-有机化合物的有机结构部分包括乙酰丙酮根、新癸酸根、乙基己酸根或其至少两种的混合物。

5.根据权利要求2的多层复合体前体(2),其中所述金属-有机化合物的有机结构部分包括乙酰丙酮根、新癸酸根、乙基己酸根或其至少两种的混合物。

6.根据权利要求1的多层复合体前体(2),其中所述第一硅化合物选自氨基硅烷、氨基氧硅烷或其至少两种的混合物。

7.根据权利要求2的多层复合体前体(2),其中所述第一硅化合物选自氨基硅烷、氨基氧硅烷或其至少两种的混合物。

8.根据权利要求4的多层复合体前体(2),其中所述第一硅化合物选自氨基硅烷、氨基氧硅烷或其至少两种的混合物。

9.根据权利要求5的多层复合体前体(2),其中所述第一硅化合物选自氨基硅烷、氨基氧硅烷或其至少两种的混合物。

10.根据权利要求1-9中任一项的多层复合体前体(2),其中液相(18)进一步包含具有至少两个硅原子的其他硅化合物,其中所述至少两个硅原子经由一个氧原子连接。

11.根据权利要求10的多层复合体前体(2),其中所述其他硅化合物选自硅氧烷。

12.根据权利要求10的多层复合体前体(2),其中液相(18)包含基于液相(18)的总重量为0.1-50重量%的第一硅化合物或其他硅化合物或二者。

13.根据权利要求1-9中任一项的多层复合体前体(2),其中所述金属-有机化合物转化成金属,其中转化的金属具有基于所述金属的重量为小于10重量%的有机结构部分含量。

14.根据权利要求1-9中任一项的多层复合体前体(2),其中液相(18)进一步包含选自如下组的组分:

M1.选自如下组的有机化合物:醇、有机酸、胺、二胺、酯、醚、酮、硅氧烷、磺酸酯、聚合物或其至少两种的混合物;

M2.选自如下组的无机化合物:水、硅烷、无机酯、陶瓷、玻璃、聚合物、金属或其至少两种混合物;

或其混合物。

15.根据权利要求1-9中任一项的多层复合体前体(2),其中所述金属-有机化合物包含选自银、金、铂、钯或其至少两种的金属。

16.根据权利要求1-9中任一项的多层复合体前体(2),其中所述金属-有机化合物包含银。

17.根据权利要求1-9中任一项的多层复合体前体(2),其中液相(18)的厚度为0.1-5000μm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赫劳斯贵金属有限两和公司;韩国电子技术研究院,未经赫劳斯贵金属有限两和公司;韩国电子技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310547302.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top