[发明专利]用于磁控溅射阳极棒的支撑件及包括其的磁控溅射装置

说明书

技术领域

本发明涉及镀膜设备，特别是一种用于磁控溅射阳极棒的支撑件。本发明还涉及包括这种支撑件的磁控溅射装置。

背景技术

磁控溅射技术是镀膜中常用的技术，其具有成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现大面积镀膜等优点。

在圆柱靶磁控溅射设备的真空腔体中，需要在圆柱靶旁边安装阳极棒以使得在基底上产生均匀性良好的膜层。在现有技术中，阳极棒通常为不锈钢棒，其设置为一端与腔体相连接，而另一端使用支撑棒进行支撑。图1示意性地显示了现有技术中的支撑棒110，支撑棒110的一端与阳极棒300相连，另一端120插在防镀挡片200上的孔210中，从而实现支撑棒110对阳极棒300的支撑作用。但是，支撑棒110与防镀挡片200的这种连接方式并不稳定，经常会发生意外脱开，而造成设备异常。

发明内容

针对现有技术中所存在的上述技术问题，本发明提出了一种用于磁控溅射阳极棒的支撑件，其能够使支撑棒与防镀挡片牢固地连接在一起而不发生意外脱开。本发明还涉及包括这种支撑件的磁控溅射装置。

1）根据本发明的第一方面，提出了一种用于磁控溅射阳极棒的支撑件，包括：支撑棒和能与支撑棒固定配合的防镀挡板，其中，支撑棒的第一端部构造成与阳极棒相配合的支撑端，第二端部构造成能与防镀挡板的安装孔固定连接的安装端以防止支撑棒从防镀挡板的安装孔中脱出，安装端的横截面相对于支撑棒的主体部分的横截面而缩小。

根据本发明的支撑件，由于支撑棒与防镀挡板通过防镀挡板上的安装孔而固定地安装在一起，避免了支撑棒与防镀挡片脱开。

2）在本发明的第1）项的一个实施方式中，支撑棒的安装端的变径部分形成直角台阶。支撑棒通过直角台阶与防镀挡板上的安装孔稳定地卡接在一起，从而提高了支撑棒的安装稳定性。优选地，安装孔的直径大于或等于安装端的直径并且小于直角台阶的外径。

3）在本发明的第1）或第2）项的一个实施方式中，支撑棒为圆柱形。在一个优选的实施例中，支撑棒的安装端为圆柱形，防镀挡板上的安装孔为与安装端相匹配的圆孔。圆柱形的支撑棒使得其加工比较方便。支撑棒的安装端和安装孔也为圆形，不但加工比较方便而且使得支撑板与安装孔之间的配合没有方向性，方便了装配。

4）在本发明的第1）到第3）项中任一个的一个实施方式中，支撑棒的支撑端和阳极棒之间还设置有绝缘环。

5）在本发明的第4）项的一个实施方式中，绝缘环为陶瓷材料。陶瓷绝缘环的耐高温性较好，并且不易老化，避免了现有技术中使用的聚合物绝缘环有可能发生碳化或易老化的问题。在一个实施例中，支撑棒为陶瓷材料。与现有技术中的不锈钢支撑棒相比，陶瓷材料的支撑棒更加耐高温。在一个优选的实施例中，该陶瓷材料为氧化铝陶瓷。

6）在本发明的第1）到第5）项中任一个的一个实施方式中，阳极棒的与支撑棒配合的端部构造成中空结构，支撑棒的支撑端插入到中空结构中，绝缘环处于支撑端和所述中空结构的内壁之间。

7）根据本发明的第二方面，提出了一种磁控溅射装置，其包括根据上文所述的支撑件。

与现有技术相比，本发明的优点在于，在防镀挡板上设置了安装孔，支撑棒的安装端卡入安装孔中，这样实现了支撑棒和防镀挡板的固定连接，避免了支撑棒与防镀挡片脱开。绝缘环使用了陶瓷材料以提高其耐高温性，并且延长使用寿命。支撑棒也使用陶瓷材料以提高其耐高温性。

附图说明

在下文中将基于实施例并参考附图来对本发明进行更详细的描述。其中：

图1是现有技术中的支撑件的结构示意图；

图2是根据本发明的支撑件的结构示意图。

在附图中，相同的部件使用相同的附图标记。附图并未按照实际的比例绘制。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明做进一步说明。

图1示意性地显示了现有技术中的支撑棒110与阳极棒300和防镀挡板200的连接关系，这里不再详细描述。

图2示意性地显示了根据本发明的用于磁控溅射阳极棒的支撑件10。支撑件10包括能固定连接在一起的支撑棒11和防镀挡板20。如图2所示，支撑棒11的第一端部构造成安装端12，并且安装端12的横截面尺寸小于支撑棒11的主体部分15的横截面尺寸；支撑棒11的第二端部构造成与阳极棒30相配合的支撑端13。在防镀挡板20上构造有安装孔21，安装孔21的形状和大于与支撑棒11的安装端12相匹配，从而能方便地将支撑棒11与防镀挡板20装配在一起。