[发明专利]用于磁控溅射阳极棒的支撑件及包括其的磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201310545471.6 | 申请日： | 2013-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN103602954A | 公开（公告）日： | 2014-02-26 |
| 发明（设计）人： | 谢进平 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 刘华联;蒋宏飞 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 磁控溅射 阳极 支撑 包括 装置 | ||
1.一种用于磁控溅射阳极棒的支撑件，包括：支撑棒和能与所述支撑棒固定配合的防镀挡板，
其中，所述支撑棒的第一端部构造成与阳极棒相配合的支撑端，第二端部构造成能与所述防镀挡板的安装孔固定连接的安装端以防止所述支撑棒从所述防镀挡板的安装孔中脱出，所述安装端的横截面相对于所述支撑棒的主体部分的横截面而缩小。
2.根据权利要求1所述的支撑件，其特征在于，所述支撑棒的安装端的变径部分形成直角台阶，并且安装孔的直径大于或等于所述安装端的直径并且小于所述直角台阶的外径。
3.根据权利要求2所述的支撑件，其特征在于，所述支撑棒为圆柱形。
4.根据权利要求3所述的支撑件，其特征在于，所述支撑棒的安装端为圆柱形，所述防镀挡板上的安装孔为与所述安装端相匹配的圆孔。
5.根据权利要求2所述的支撑件，其特征在于，在所述支撑棒的支撑端和所述阳极棒之间还设置有绝缘环。
6.根据权利要求5所述的支撑件，其特征在于，所述绝缘环为陶瓷材料。
7.根据权利要求5所述的支撑件，其特征在于，所述支撑棒为陶瓷材料。
8.根据权利要求7所述的支撑件，其特征在于，所述陶瓷材料为氧化铝陶瓷。
9.根据权利要求8所述的支撑件，其特征在于，所述阳极棒的与所述支撑棒配合的端部构造成中空结构，所述支撑棒的支撑端插入到所述中空结构中，所述绝缘环处于所述支撑端和所述中空结构的内壁之间。
10.一种磁控溅射装置，其特征在于，包括根据权利要求1到9中任一项所述的支撑件。
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