[发明专利]一种B位Mn和Cu共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3 薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310539466.4 申请日: 2013-11-04
公开(公告)号: CN103613144A 公开(公告)日: 2014-03-05
发明(设计)人: 谈国强;董国华;罗洋洋 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: C01G49/00 分类号: C01G49/00
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 陆万寿
地址: 710021 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 mn cu 掺杂 剩余 极化 强度 bifeo sub 薄膜 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于功能材料领域,具体涉及一种B位Mn和Cu共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜及其制备方法。

背景技术

BiFeO3是少数在室温下同时具有铁电和铁磁性能的单相多铁材料之一,具有扭曲的钙钛矿结构,同时具有铁电性(居里温度为830℃)和反铁磁性(尼尔温度为370℃)。随着人们对电子器件的小型化要求越来越高,对于这种同时具有多种功能的单相材料的研究得到人们的重视。因此BiFeO3成为可广泛应用于在新型存储器件、自旋电子器件、微电子学、光电子学、集成光学和微电子机械系统等领域的重要功能材料。

然而目前限制BiFeO3薄膜应用的最大的问题就是低电阻率,无法在室温下测量其铁电性质。一方面,传统的慢速退火工艺制备BiFeO3时,氧空位在高温退火下达到动态平衡,当退火过程结束,部分氧空位滞留其中,形成氧空位的聚集,引起氧剂量的偏移,这种偏移使得铁价态发生波动(Fe3+转化为Fe2+)。铁价态的波动导致大的漏导,从而使BiFeO3漏电流较大,由于大的漏导使其铁电性无法正确测量而获得饱和极化。另一方面,BiFeO3本身具有的低介电常数和低电阻率等性质致使很难观测到电滞回线。这些特点都大大地限制了其应用。

发明内容

本发明的目的在于提供一种B位Mn和Cu共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜及其制备方法,该方法设备要求简单,实验条件容易达到,制备的薄膜均匀性较好,掺杂量容易控制,制得的Mn和Cu共掺杂的BiFeO3薄膜的具有良好的铁电性能。

为了达到上述目的,本发明制备B位Mn和Cu共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的方法,包括以下步骤:

1)将硝酸铋、硝酸铁、醋酸锰和硝酸铜按1.05:[(0.92~0.98)-x]:(0.02~0.08):x的摩尔比溶于乙二醇甲醚和醋酸酐的混合液中搅拌均匀,得到BiFeO3前驱液;其中,BiFeO3前驱液中总的金属离子浓度为0.1~0.5mol/L,x=0.01~0.03;

2)将BiFeO3前驱液旋涂在FTO/glass基片上制备湿膜,将湿膜于180~260℃烘烤得干膜,然后在550℃快速退火10~15min,即得晶态BiFeO3薄膜;

3)待晶态BiFeO3薄膜冷却后重复步骤2)使晶态BiFeO3薄膜达到所需厚度,即得B位Mn和Cu共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜。

所述的步骤1)混合液中乙二醇甲醚和醋酸酐的体积比为(1:1)~(4:1)。

所述的步骤1)中硝酸铋、硝酸铁、醋酸锰和硝酸铜的摩尔比为1.05:(0.96-x):0.04:x。

所述的步骤2)中将BiFeO3前驱液旋涂在FTO/glass基片上前,BiFeO3前驱液静置24~32h。

所述的步骤2)中湿膜的烘烤时间为5~10min。

一种采用所述方法制备的Mn和Cu共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的化学组分为BiFe0.96-xMn0.04CuxO3,x=0.01~0.03;具有扭曲钙钛矿结构,为菱方结构,R3c和R3m空间群共存状态,剩余极化值Pr>120μC/cm2,矫顽场强在350kV/cm以下。

x=0.02,该B位Mn和Cu共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3的薄膜晶粒尺寸在120~200nm。

与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:

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