[发明专利]聚光图案形成组件、曝光方法以及元件制造方法

说明书

本申请是中国申请号为200880005543.5，发明名称为“曝光方法、曝光装置、聚光图案形成组件、掩膜以及元件制造方法”的专利申请的分案申请，原申请的申请日是2008年3月26日。

技术领域

相关申请案

本申请案主张2007年4月2日提出申请的美国临时申请案第60/907444号、及2008年2月27日提出申请的美国专利申请案（未标记专利申请号）的优先权。

本发明是关于，在利用微影（lithography）步骤来制造例如半导体元件、液晶显示元件、印刷电路基板（print circuit board）、微机电系统（Micro-Electro-Mechanical Systems，MEMS）或者光集成电路等的元件时，将电路图案等曝光于感光性平板(基板)上的曝光方法与曝光装置、该曝光中所使用的聚光图案形成组件与掩膜（或称为光罩）、该些聚光图案形成组件与掩膜的设计及制造方法、以及上述元件的制造方法。

背景技术

例如在半导体元件、液晶显示元件、印刷电路基板、MEMS或者光集成电路等的元件的制造步骤中，使用的是用以于该些元件上形成微细图案的曝光装置（例如参照专利文献1:美国专利第4,636,626号公报

发明内容

在上述专利文献1所揭示的曝光装置中，使用相对于平板(基板)空出规定的间隔而配置的掩膜来转印图案，故图案被模糊地转印至平板(基板)上，而无法将微细的图案转印至平板(基板)。因此，本发明的目的在于能够清晰地转印微细图案。

本发明的聚光图案形成装置包括：照明部，配置于第1面，照射照明光至具有遮光部与光通过部的图案；以及多个聚光部，以经由上述光通过部的照明光，于被曝光体上形成聚光图案；上述聚光图案形成装置调整上述照明光的主光线与上述聚光部的光轴的相对角度。

本发明的曝光方法包括：配置具有遮光部与光通过部的图案于第1面；照射照明光至上述图案；准备多个聚光部；以经由上述光通过部的照明光，于被曝光体上形成聚光图案；以及调整上述照明光的主光线与上述聚光部的光轴的相对角度。

本发明的元件制造方法包括：曝光步骤，使用本发明的曝光方法，来将上述聚光图案曝光于感光性基板上；显影步骤，使转印有上述图案的上述感光性基板显影，并于上述感光性基板的表面上形成形状与上述图案相对应的掩膜层；以及加工步骤，经由上述掩膜层来对上述感光性基板的表面进行加工。

本发明的元件制造方法包括：曝光步骤，使用本发明的聚光图案形成装置，来将上述图案曝光于感光性基板上；显影步骤，使转印有上述图案的上述感光性基板显影，并于上述感光性基板的表面上形成形状与上述图案相对应的掩膜层；以及加工步骤，经由上述掩膜层来对上述感光性基板的表面进行加工。

本发明的曝光方法包括：第1曝光步骤，对配置成接近基板的掩膜照射曝光光，将形成于该掩膜上的规定的图案曝光于基板上；以及第2曝光步骤，对配置成接近上述基板且具备多个聚光部的聚光图案形成组件照射曝光光，将规定形状的聚光图案曝光于上述基板上，在经上述第1曝光步骤而曝光的规定的图案与经上述第2曝光步骤而形成的上述聚光图案中，至少一部分是重叠的。

本发明的曝光方法包括：规定的第1图案的第1曝光步骤，在使基板相对于规定的第1图案而静止的状态下，将上述第1图案曝光于基板上的第1区域；规定的第2图案的第2曝光步骤，一方面使规定的第2图案与上述基板进行相对移动，一方面将上述第2图案曝光于上述基板上的上述第1区域；以及移动步骤，使上述第1图案的形成位置与上述基板进行相对移动，以便将上述第1图案曝光于上述基板上的与上述第1区域不同的第2区域，上述第2曝光步骤是在执行上述移动步骤时进行的。上述第2曝光步骤包括对配置成接近于上述基板且具备多个聚光部的聚光图案形成组件照射曝光光，并将与上述第2图案相对应的形状的聚光图案形成于上述基板上。

本发明的曝光装置包括：第1保持部，以接近于基板的方式来保持含有规定的图案的掩膜；第2保持部，以接近于上述基板的方式来保持聚光图案形成组件，该聚光图案形成组件具备多个聚光部，该些聚光部将包括规定形状的聚光图案形成于上述基板上；以及照明部，对被上述第1保持部所保持的上述掩膜照射曝光光，以将上述规定的图案曝光到上述基板，并对被上述第2保持部所保持的上述聚光图案形成组件照射曝光光，以将上述聚光图案曝光到上述基板。