[发明专利]聚光图案形成组件、曝光方法以及元件制造方法在审

专利信息
申请号: 201310535482.6 申请日: 2008-03-26
公开(公告)号: CN103728841A 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 登道男 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁
地址: 日本东京都千代*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 聚光 图案 形成 组件 曝光 方法 以及 元件 制造
【权利要求书】:

1.一种聚光图案形成装置,其特征在于包括:

照明部,配置于第1面,照射照明光至具有遮光部与光通过部的图案;以及

多个聚光部,以经由上述光通过部的照明光,于被曝光体上形成聚光图案,

上述聚光图案形成装置调整上述照明光的主光线与上述聚光部的光轴的相对角度。

2.根据权利要求1所述的聚光图案形成装置,其特征在于还包括:

变形状态检测部,检测上述被曝光体的变形状态,

基于自上述变形状态检测部的输出,调整上述相对角度。

3.根据权利要求1所述的聚光图案形成装置,其特征在于其中

一方面使上述多个聚光部与上述被曝光体的第1方向上的位置关系变更,一方面照射上述照明光。

4.根据权利要求3所述的聚光图案形成装置,其特征在于包括:

平台部,变更横过上述第1方向的第2方向上的上述多个聚光部与上述被曝光体的相对的位置关系。

5.根据权利要求1所述的聚光图案形成装置,其特征在于:

在固定上述多个聚光部与上述被曝光体的第1方向上的位置关系的状态下,照射上述照明光。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的聚光图案形成装置,其特征在于:

上述多个聚光部设置在透光性基板上,

上述聚光图案形成装置包括多个上述透光性基板。

7.根据权利要求6所述的聚光图案形成装置,其特征在于:

上述多个透光性基板沿着第1方向而排列。

8.根据权利要求7所述的聚光图案形成装置,其特征在于:

上述多个透光性基板沿着横过上述第1方向的第2方向而排列。

9.根据权利要求1至5中任一项所述的聚光图案形成装置,其特征在于其中

上述多个聚光部包括设置于透光性基板上的聚光性遮光图案。

10.根据权利要求1至5中任一项所述的聚光图案形成装置,其特征在于其中

上述聚光部包括形成于透光性基板上的相位型绕射图案。

11.根据权利要求1至5中任一项所述的聚光图案形成装置,其特征在于其中

上述聚光部包括形成于透光性基板上的透镜面。

12.根据权利要求1至5中任一项所述的聚光图案形成装置,其特征在于还包括

透光性基板,该透光性基板具有上述照明光所入射的第1光学面、以及设置在较上述第1光学面更靠近上述被曝光体的第2光学面,

上述聚光部形成于上述第2光学面,

上述透光性基板还包括用以保持上述聚光图案形成装置的被保持部,该被保持部沿着横过上述第1光学面与上述第2光学面的面而形成。

13.根据权利要求1至5中任一项所述的聚光图案形成装置,其特征在于其中

上述照明部包括对上述照明光的焦阑性进行控制的焦阑性控制部。

14.一种曝光方法,其特征在于其包括以下步骤:

配置具有遮光部与光通过部的图案于第1面;

照射照明光至上述图案;

准备多个聚光部;

以经由上述光通过部的照明光,于被曝光体上形成聚光图案;以及

调整上述照明光的主光线与上述聚光部的光轴的相对角度。

15.根据权利要求14所述的曝光方法,其特征在于还包括:

检测上述被曝光体的变形状态,

其中,基于自上述被检测到的变形状态,调整上述相对角度。

16.根据权利要求14所述的曝光方法,其特征在于还包括:

一方面使上述多个聚光部与上述被曝光体的第1方向上的位置关系变更,一方面照射上述照明光。

17.根据权利要求16所述的曝光方法,其特征在于还包括:

变更横过上述第1方向的第2方向上的上述多个聚光部与上述被曝光体的相对的位置关系。

18.根据权利要求14所述的曝光方法,其特征在于还包括:

在固定上述多个聚光部与上述被曝光体的第1方向上的位置关系的状态下,照射上述照明光。

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