[发明专利]基板上的图案形成方法

权利要求书

1.一种基板上的图案形成方法，包括：

将多片基板贴附于一承载板上，且这些基板彼此分离；

撷取贴附有这些基板的该承载板的一参考影像；

对该参考影像进行影像处理以获得各该基板的一处理信息；以及

使用一激光记忆曝光机根据这些基板的这些处理信息对这些基板进行一曝光步骤。

2.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，还包括在进行该曝光步骤之前，于各该基板上形成一光敏感材料层。

3.如权利要求2所述的基板上的图案形成方法，该光敏感材料层包括一干式光阻层或是一湿式光阻层。

4.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，还包括在贴附这些基板于该承载板之前，在该承载板上形成至少一对位标记，且贴附这些基板于该承载板的步骤包括根据该至少一对位标记调整这些基板的贴附位置。

5.如权利要求4所述的基板上的图案形成方法，还包括在该承载板上形成该对位标记之后，形成一保护层以覆盖该对位标记。

6.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，还包括在贴附这些基板于该承载板之前，在该基板上形成至少一对位标记。

7.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，其中各该基板的该处理信息包括一位置信息。

8.如权利要求7所述的基板上的图案形成方法，其中各该基板的该位置信息包括一基板位置以及一基板角度。

9.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，其中各该基板的该处理信息包括一影像信息。

10.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，其中撷取贴附有这些基板的该承载板的该参考影像的方法包括使用一自动贴合量测机或是测长仪。

11.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，其中这些基板在该曝光步骤中都被曝光。

12.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，其中这些基板相互间隔的距离不一致。

13.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，其中还包括进行多次该曝光步骤，且各次的曝光步骤都根据这些基板的这些处理信息来进行。

14.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，其中进行该曝光步骤之后，还包括进行一显影步骤。

15.如权利要求9所述的基板上的图案形成方法，其中进行该显影步骤之后，还包括进行一蚀刻步骤。

16.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，其中该基板包括一触控基板。