[发明专利]提高波长选择开关通道间隔离度的光器件及其制造方法有效
申请号: | 201310533111.4 | 申请日: | 2013-11-01 |
公开(公告)号: | CN103558666A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 刘子晨;谢德权;尤全 | 申请(专利权)人: | 武汉邮电科学研究院 |
主分类号: | G02B6/34 | 分类号: | G02B6/34;G02B5/04;G02B5/22 |
代理公司: | 北京捷诚信通专利事务所(普通合伙) 11221 | 代理人: | 魏殿绅;庞炳良 |
地址: | 430074 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提高 波长 选择 开关 通道 间隔 器件 及其 制造 方法 | ||
1.一种提高波长选择开关通道间隔离度的光器件,包括柱状玻璃棱镜,其特征在于:所述柱状玻璃棱镜的横截面为等腰直角三角形,柱状玻璃棱镜包括入射面(1)、反射面(2)和与WSS芯片胶合的底面(3),入射面(1)、反射面(2)和底面(3)均呈矩形,等腰直角三角形的斜边位于反射面(2)上,等腰直角三角形的两个直角边分别位于入射面(1)、底面(3)上,入射面(1)的外表面镀有近红外部分吸收透射膜,所述近红外部分吸收透射膜对红外光的吸收是逐份进行的,与光强无关;反射面(2)的外表面镀有金属反射膜,其主要作用是对光的反射,其次对红外光也有微量的吸收并转化为热能;与WSS芯片胶合的底面(3)的外表面镀有红外增透膜;光信号通过该光器件后,到达WSS芯片,被WSS芯片进行相应通道切换后,再经该光器件出射,多余的光被金属反射膜以及近红外部分吸收透射膜吸收,消除多余的衍射光,提高WSS通道间的隔离度。
2.如权利要求1所述的提高波长选择开关通道间隔离度的光器件,其特征在于:所述近红外部分吸收透射膜为15~20nm厚的二氧化钛薄膜,用于实现在1260~1620nm波段91%以上的透射率。
3.如权利要求1所述的提高波长选择开关通道间隔离度的光器件,其特征在于:所述金属反射膜为100nm厚的铝膜、银膜或者黄金膜,当入射光45度入射时,实现在整个1260~1620nm波段内95%以上的反射。
4.如权利要求1至3中任一项所述的提高波长选择开关通道间隔离度的光器件,其特征在于:所述红外增透膜为氟化镁膜或者氟化镧膜。
5.权利要求1所述的提高波长选择开关通道间隔离度的光器件的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:
选择一个横截面为等腰直角三角形的柱状玻璃棱镜,柱状玻璃棱镜包括入射面(1)、反射面(2)和与WSS芯片胶合的底面(3),入射面(1)、反射面(2)和与WSS芯片胶合的底面(3)均呈矩形,等腰直角三角形的斜边位于反射面(2)上,等腰直角三角形的两个直角边分别位于入射面(1)、底面(3)上,在入射面(1)的外表面镀上近红外部分吸收透射膜,近红外部分吸收透射膜对红外光的吸收是逐份进行的,与光强无关;在反射面(2)的外表面镀上金属反射膜,其主要作用是对光的反射,其次其对红外光也有微量的吸收并转化为热能;在与WSS芯片胶合的底面(3)的外表面镀上一层红外增透膜,整个光部件制造完毕。
6.如权利要求5所述的提高波长选择开关通道间隔离度的光器件的制造方法,其特征在于:所述近红外部分吸收透射膜为15~20nm厚的二氧化钛薄膜,用于实现在1260~1620nm波段91%以上的透射率。
7.如权利要求5所述的提高波长选择开关通道间隔离度的光器件的制造方法,其特征在于:所述金属反射膜为100nm厚的铝膜、银膜或者黄金膜,当入射光45度入射时,实现在整个1260~1620nm波段内95%以上的反射。
8.如权利要求5所述的提高波长选择开关通道间隔离度的光器件的制造方法,其特征在于:所述红外增透膜为氟化镁膜或者氟化镧膜。
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