[发明专利]晶硅片切割液pH值的检测方法有效

专利信息
申请号: 201310531568.1 申请日: 2013-11-01
公开(公告)号: CN103630586A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 王杰;高敏杰;张孟雷;王行展;王红霞;宋漫漫;徐元清;袁庆冬 申请(专利权)人: 河南新大新材料股份有限公司
主分类号: G01N27/26 分类号: G01N27/26
代理公司: 河南科技通律师事务所 41123 代理人: 张建东
地址: 475000 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 硅片 切割 ph 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种晶硅片切割液pH值的检测方法,其特征在于,包括下列步骤:

(1)固液分离:将待检测的晶硅片切割液进行固液分离,去除其中碳化硅微粉、硅粉固体杂质;

(2)真空蒸馏:将步骤(1)中所得的液体在真空度≤0.09MPa、加热温度为60~70℃的条件下,蒸馏去除其中的吸附水;

(3)溶液配制:将步骤(2)中所得的液体与去离子水按1:15~25的质量比混合均匀;

(4)冷却检测:将步骤(3)中所得的液体冷却至测量温度后,检测其pH值,所得的结果即是检测晶硅片切割液的pH值。

2.根据权利要求1所述的晶硅片切割液pH值的检测方法,其特征在于,所述固液分离方法为:将待检测的晶硅片切割液先进行离心沉降,再对离心沉降后所得的液体进行过滤,将其中的碳化硅微粉、硅粉固体杂质去除。

3.根据权利要求2所述的晶硅片切割液pH值的检测方法,其特征在于,所述离心沉降过程在离心转速为1500~2000转/分的条件下进行。

4.根据权利要求2所述的晶硅片切割液pH值的检测方法,其特征在于,所述过滤方式为采用滤孔孔径为5~10μm的滤膜过滤。

5.根据权利要求2所述的晶硅片切割液pH值的检测方法,其特征在于,在过滤之前向离心沉降处理后得到的液体中加入活性炭并搅拌,使该液体中剩余的细小颗粒被活性炭中的微孔吸附,再将含有活性炭的液体过滤。

6.根据权利要求1所述的晶硅片切割液pH值的检测方法,其特征在于,所述步骤(4)中的冷却方式为非接触式水冷冷却。

7.根据权利要求1所述的晶硅片切割液pH值的检测方法,其特征在于,所述步骤(4)中将待检测液体冷却至25℃时用pH计进行pH值检测。

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