[发明专利]清洁系统和衬底处理工具

权利要求书

1.一种清洁系统，所述清洁系统包括清洁单元，所述清洁单元被构造和布置以在衬底保持件的支撑表面上产生基团，以从其上移除污染物，

其中，所述清洁系统处在氢气气体环境中，其中所述清洁单元包括：

外壳，所述外壳包括与真空单元相连通的出口和多个开口，所述多个开口使得气体在所述氢气气体环境和所述外壳的内部之间连通，和

等离子体产生器，所述等离子产生器被布置在所述外壳的内部且被配置以产生用于产生所述基团的氢等离子体，所述氢气气体环境被配置以用作所述等离子体产生器的氢供给。

2.根据权利要求1所述的清洁系统，其中，所述等离子体产生器包括RF电极、DC放电电极或RF线圈。

3.根据权利要求1所述的清洁系统，其中，所述外壳在使用中靠近所述衬底保持件定位，以在所述支撑表面的至少一部分上产生所述基团。

4.根据权利要求3所述的清洁系统，其中，所述外壳被构造和布置以基本上覆盖由所述支撑表面限定的整个区域。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的清洁系统，其中，在使用中，所述清洁单元能够相对于用于保持待清洁的衬底的衬底保持件移动。

6.根据权利要求5所述的清洁系统，其中，所述清洁单元是能够沿着大致垂直于所述支撑表面的方向移动的。

7.根据权利要求1-4中任一项所述的清洁系统，其中，所述清洁系统还包括配置用于检测在所述支撑表面上的污染物的污染物检测系统和与所述污染物检测系统和所述清洁单元相通讯的控制器，所述控制器被配置以基于所述污染物检测系统的检测结果来控制所述清洁单元、所述衬底保持件或上述两者的位置。

8.根据权利要求1-4中任一项所述的清洁系统，其中，所述外壳由网孔材料制成。

9.一种衬底处理工具，包括根据权利要求1-8中任一项所述的清洁系统。