[发明专利]用于生成用于双重构图技术的布局的系统和方法

权利要求书

1.一种用于生成用于双重构图技术的布局的系统，包括：

确定性边界互连特征生成器，被配置为基于至少一个双重构图设计规则为单元生成确定性边界互连特征；和

与所述确定性边界互连特征生成器相关的单元布置和互连布线工具，被配置为布置所述确定性边界互连特征和所述单元的与此相关的其它特征。

2.如权利要求1所述的系统，其中所述确定性边界互连特征生成器进一步被配置为使用相同数量的互连层生成一族确定性边界互连特征。

3.如权利要求2所述的系统，其中所述互连层限于双重构图层。

4.如权利要求1所述的系统，其中所述确定性边界互连特征被配置为连接到集成电路的电源导轨。

5.如权利要求1所述的系统，其中所述确定性边界互连特征被配置为用在电容器中。

6.如权利要求1所述的系统，其中所述确定性边界互连特征是侧面单元确定性边界互连特征和U型确定性边界互连特征中的一个，并且对应于I／O缓冲器单元和I/O支持单元中的一个。

7.如权利要求1所述的系统，其中所述确定性边界互连特征是完整环确定性边界互连特征，并且对应于核心块单元。

8.如权得要求1所述的系统，其中所述确定性边界互连是物理特征，所述物理特征由采用所述至少一个双重构图设计规则被限定和布局的一种或多种传导材料形成。

9.一种生成用于双重构图技术的布局的方法，包括：

基于至少一个双重构图设计规则为单元生成确定性边界互连特征；以及

布置所述确定性边界互连特征和所述单元的与此相关的其它特征。

10.一种计算机可读存储介质，包含用于利用混合单元库来设计和实现电路的程序指令，由计算机系统的一个或多个处理器执行所述程序指令使得所述一个或多个处理器：

基于至少一个双重构图设计规则为单元生成确定性边界互连特征；以及

布置所述确定性边界互连特征和所述单元的与此相关的其它特征。