[发明专利]一种湿蚀刻设备

权利要求书

1.一种湿蚀刻设备，其包括：

机台，所述机台中装有药液，对放置于所述机台内的半导体器件进行蚀刻；

连接管路，所述连接管路连接于所述机台的底部，对所述机台传送药液，其中，所述连接管路包括：

取液管道，所述取液管道与所述机台的底部连通，药液从外部通过所述取液管道进入所述机台；

液位槽，所述液位槽连接于所述取液管道上，将所述取液管道分为上下连通的第一管路以及第二管路，其中，所述第一管路位于所述第二管路的上方，且所述液位槽与所述第一管路以及所述第二管路均互相连通，药液从所述第二管路分流，流向所述第一管路以及所述液位槽；

液位传感器，所述液位传感器连接于所述液位槽的外侧；

其特征在于，所述湿蚀刻设备还包括：

过滤装置，所述过滤装置连接于所述连接管路中。

2.根据权利要求1所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述过滤装置包括至少一手动阀，所述手动阀连接于所述取液管道中，药液经过所述手动阀后进入所述机台。

3.根据权利要求2所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述过滤装置包括两个手动阀，其中，一个所述手动阀连接于所述取液管道的第一管路中，另一个所述手动阀连接于所述取液管道的第二管路中。

4.根据权利要求3所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述第一管路竖直方向的长度为25mm。

5.根据权利要求2所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述过滤装置包括一个手动阀，所述手动阀连接于所述取液管道的第二管路中。

6.根据权利要求4或5所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述手动阀打开状态为完全打开时的四分之三。

7.根据权利要求1所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述过滤装置包括至少一滤网，所述滤网连接于所述连接管路中，且低于所述液位传感器。

8.根据权利要求7所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述滤网连接于所述液位槽中，其中，所述液位槽由互相连通呈L型的第三管路以及第四管路组成，其中，所述第三管路与所述取液管道相连接，所述液位传感器连接于所述第四管路的外侧。

9.根据权利要求8所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述过滤装置包括两个滤网，所述两个滤网分别连接于所述第三管路和第四管路中，其中，一个滤网的尺寸与所述第三管路的横截面尺寸相适应，一个滤网的尺寸与所述第四管路的横截面尺寸相适应。

10.根据权利要求1所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述过滤装置包括：

至少一手动阀，所述手动阀连接于所述第一管路中；

至少一滤网，所述滤网连接于所述液位槽中，且低于所述液位传感器。

11.根据权利要求1所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述过滤装置包括：

至少一手动阀，所述手动阀连接于所述第二管路中；

至少一滤网，所述滤网连接于所述液位槽中，且低于所述液位传感器。

12.根据权利要求1所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述第一管路以及所述第二管路的管道尺寸为32mm。

13.根据权利要求1所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述液位传感器为一光感传感器。