[发明专利]彩膜基板、触控显示装置及彩膜基板的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及触控显示技术领域，特别是涉及一种触摸屏的彩膜基板、触控显示装置及触摸屏的彩膜基板的制作方法。

背景技术

目前，大多数互电容式触摸屏为外挂式，即触摸屏与显示屏分开制作然后贴合在一起。这种技术存在制作成本较高、光透过率较低、模组较厚的缺点。随着科技的发展，内嵌触摸屏技术逐渐成为研发新宠，其是指：用于实现触控功能的驱动电极线和探测电极线设置在显示屏的基板上。采用内嵌触摸屏技术的触控显示装置相比外挂式触控显示装置，具有厚度更薄、性能更高、成本更低的优势。

如图1所示，现有的一种内嵌式触摸屏的彩膜基板包括：透明基板10，以及在透明基板10之上依次形成的驱动电极11和探测电极线12、第一钝化层13、金属桥14、第二钝化层15、黑矩阵16、彩色光阻17、平坦层18和隔垫物19，其中，驱动电极11通过金属桥14搭接组成驱动电极线，驱动电极线与探测电极线12交叉设置并在交叉处通过第一钝化层13绝缘隔离。该现有技术存在的缺陷在于，彩膜基板需要至少采用六次掩模构图工艺制作完成，每一次构图工艺通常包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工序，这就对应需要至少六张掩模板，彩膜基板的整体制作工艺不但较为复杂，并且制作成本较高。

发明内容

本发明提供了一种触摸屏的彩膜基板、触控显示装置及触摸屏的彩膜基板的制作方法，以简化触摸屏中彩膜基板的制作工艺，降低制作成本。

本发明实施例提供的触摸屏的彩膜基板，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板上方的黑矩阵，所述黑矩阵包括透光区域和遮光区域；

位于所述黑矩阵的透光区域内的彩色光阻；

位于所述黑矩阵和所述彩色光阻上方且交叉设置的一组第一电极线和一组第二电极线，所述第一电极线包括通过桥接线串接的多个第一电极，所述第二电极线包括通过连接线串接的多个第二电极，所述桥接线和所述连接线交叉设置且交叉区域与黑矩阵的遮光区域位置相对；

位于所述桥接线和所述连接线之间将所述桥接线和所述连接线绝缘隔离的隔垫物。

在该技术方案中，利用彩膜基板的隔垫物将第一电极线的桥接线和第二电极线的连接线绝缘隔离，相比于现有技术，桥接线和连接线之间无需另外通过构图工艺形成第一钝化层，这大大简化了触摸屏中彩膜基板的制作工艺，减少了掩模板的使用数量，降低了制作成本。

优选的，所述第一电极、第二电极和所述连接线位于同层；所述桥接线位于所述连接线的上方，或者，所述连接线位于所述桥接线的上方。作为可选方案，第一电极、第二电极和连接线所在层结构与桥接线所在层结构的位置可互换，无论采用哪一种结构形式，彩膜基板的制作工艺均较为简化，制作成本较低。

优选的，彩膜基板还包括：位于所述黑矩阵和所述彩色光阻上方且位于所述一组第一电极线、一组第二电极线和隔垫物所组成的结构下方的覆盖基板的第一平坦层。第一平坦层可以将黑矩阵和彩色光阻的表面平坦化，有利于在其上进行下一步构图工艺。

优选的，彩膜基板还包括：位于所述一组第一电极线、一组第二电极线和隔垫物所组成的结构上方的覆盖基板的第二平坦层。第二平坦层可以使彩膜基板表面平坦化，并能够起到保护基板的作用。

本发明实施例还提供了一种触控显示装置，包括前述任一技术方案所述的触摸屏的彩膜基板，具有较低的制作成本。

本发明实施例还提供了一种制作前述触摸屏的彩膜基板的方法，包括：

通过构图工艺在衬底基板之上形成包括透光区域和遮光区域的黑矩阵的图案；

通过构图工艺形成至少覆盖黑矩阵的透光区域的彩色光阻的图案；

通过构图工艺在黑矩阵和彩色光阻的上方形成第一电极、第二电极和连接线的图案；

通过构图工艺在第一电极、第二电极和连接线的层结构上方形成隔垫物的图案；

通过构图工艺在隔垫物的层结构上方形成桥接线的图案。

该技术方案最少可采用五次构图工艺形成触摸屏的彩膜基板，相比于现有技术，简化了制作工艺，减少了掩模板的使用数量，降低了制作成本。

优选的，在形成彩色光阻的图案之后，形成第一电极、第二电极和连接线的图案之前，该方法还进一步包括：形成覆盖基板的第一平坦层；在形成桥接线的图案之后，该方法还进一步包括：形成覆盖基板的第二平坦层。第一平坦层和第二平坦层可以起到基板平坦化和保护电极的作用。