[发明专利]彩膜基板、触控显示装置及彩膜基板的制作方法

权利要求书

1.一种触摸屏的彩膜基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板上方的黑矩阵，所述黑矩阵包括透光区域和遮光区域；

位于所述黑矩阵的透光区域内的彩色光阻；

位于所述黑矩阵和所述彩色光阻上方且交叉设置的一组第一电极线和一组第二电极线，所述第一电极线包括通过桥接线串接的多个第一电极，所述第二电极线包括通过连接线串接的多个第二电极，所述桥接线和所述连接线交叉设置且交叉区域与黑矩阵的遮光区域位置相对；

位于所述桥接线和所述连接线之间将所述桥接线和所述连接线绝缘隔离的隔垫物。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一电极、第二电极和所述连接线位于同层；

所述桥接线位于所述连接线的上方，或者，所述连接线位于所述桥接线的上方。

3.如权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：位于所述黑矩阵和所述彩色光阻上方，且位于所述一组第一电极线、一组第二电极线和隔垫物所组成的结构下方的覆盖基板的第一平坦层。

4.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：位于所述一组第一电极线、一组第二电极线和隔垫物所组成的结构上方的覆盖基板的第二平坦层。

5.一种触控显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～4任一项所述的触摸屏的彩膜基板。

6.一种制作如权利要求1所述触摸屏的彩膜基板的方法，其特征在于，包括：

通过构图工艺在衬底基板之上形成包括透光区域和遮光区域的黑矩阵的图案；

通过构图工艺形成至少覆盖黑矩阵的透光区域的彩色光阻的图案；

通过构图工艺在黑矩阵和彩色光阻的上方形成第一电极、第二电极和连接线的图案；

通过构图工艺在第一电极、第二电极和连接线的层结构上方形成隔垫物的图案；

通过构图工艺在隔垫物的层结构上方形成桥接线的图案。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，

在形成彩色光阻的图案之后，形成第一电极、第二电极和连接线的图案之前，该方法还进一步包括：形成覆盖基板的第一平坦层；

在形成桥接线的图案之后，该方法还进一步包括：形成覆盖基板的第二平坦层。

8.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述通过构图工艺形成彩色光阻的图案，具体包括：

采用同一张掩模板依次制作各个颜色的彩色光阻图案，且每制作一种颜色的彩色光阻图案后，所述掩模板偏移设定距离。

9.一种制作如权利要求1所述触摸屏的彩膜基板的方法，其特征在于，包括：

通过构图工艺在衬底基板之上形成包括透光区域和遮光区域的黑矩阵的图案；

通过构图工艺形成至少覆盖黑矩阵的透光区域的彩色光阻的图案；

通过构图工艺在黑矩阵和彩色光阻的上方形成桥接线的图案；

通过构图工艺在桥接线的层结构上方形成隔垫物的图案；

通过构图工艺在隔垫物的层结构上方形成第一电极、第二电极和连接线的图案。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，

在形成彩色光阻的图案之后，形成桥接线的图案之前，该方法还进一步包括：形成覆盖基板的第一平坦层；

在形成第一电极、第二电极和连接线的图案之后，该方法还进一步包括：形成覆盖基板的第二平坦层。

11.如权利要求9或10所述的方法，其特征在于，所述通过构图工艺形成彩色光阻的图案，具体包括：

采用同一张掩模板依次制作各个颜色的彩色光阻图案，且每制作一种颜色的彩色光阻图案后，所述掩模板偏移设定距离。