[发明专利]一种TFT液晶玻璃基板清洗液及其清洗方法

说明书

技术领域

本发明属于液晶玻璃基板清洗技术领域，涉及一种TFT液晶玻璃基板清洗液及其清洗方法。 

背景技术

玻璃基板清洗是TFT液晶玻璃制程中重复使用频率最高的步骤，在每一道制程步骤之前都必须将玻璃基板表面清洗干净，以去除污染物，避免原生氧化物薄膜之生成，随着玻璃基板的尺寸越来越大，对基板表面的洁净度要求也不断提高。玻璃基板洗净的目的在于清除基板表面的污垢的同时，必须确保基板在洗净完成后其电性参数及特性，确保元件的品质与可靠度。 

发明内容

本发明为了满足对玻璃基板表面的清洁度要求，设计了一种TFT液晶玻璃基板清洗液及其清洗方法，本清洗液的制作工艺简单，使用安全方便，利用本发明所制备的清洗液对玻璃基板的清洗能力强，达到了每一道TFT液晶玻璃制程对玻璃基板表面的清洁度要求。

本发明采用的技术方案是：一种TFT液晶玻璃基板清洗液，关键在于：上述清洗液配方组分及其各组分的质量百分含量为：

无水乙醇：        18~22%，

正丁醇：          10~30%，

正戊醇：          5~15%，

OP-10：           10~25%，

去离子水：        20~55%。

一种制备上述TFT液晶玻璃基板清洗液的方法，该制备方法步骤中包括：

A、        取料：按各组分及其各组分的质量百分含量关系备料：

无水乙醇：        18~22%，

正丁醇：          10~30%，

正戊醇：          5~15%，

OP-10：           10~25%，

去离子水：        20~55%；

B、搅拌：将无水乙醇、正丁醇、正戊醇、OP-10、去离子水按顺序依次加入搅拌器中，充分搅拌至均匀以得到清洗液；

C、装瓶：将清洗液装入玻璃器皿中，备用。

一种TFT液晶玻璃基板清洗液配套用的玻璃基板清洗方法，该清洗方法的整个清洗过程是借助超声波清洗机完成的，所述的清洗方法步骤中包括：

a、去离子水清洗：将玻璃基板放入超声波清洗机中，用去离子水进行超声波清洗，水温控制在40℃~50℃，清洗10~15分钟；

b、清洗液清洗：用TFT液晶玻璃基板清洗液对玻璃基板进行超声波清洗30-60分钟，清洗温度控制在25~30℃；

c、二次去离子水清洗：再次用去离子水对玻璃基板进行超声清洗，清洗时间为15~20分钟，清洗温度为40℃~50℃。

本发明的有益效果是：1、本发明清洗液的配方安全，利用本发明配方所制备的清洗液及其清洗方法的去污能力效果显著，并且不影响玻璃的透光性和反光性，使用安全；2、利用本发明所述的清洗方法清洗出的玻璃无水印，无污点，能充分满足液晶玻璃基板后续工作需要。

具体实施方式

一种TFT液晶玻璃基板清洗液，上述清洗液配方组分及其各组分的质量百分含量为：

无水乙醇：        18~22%，

正丁醇：          10~30%，

正戊醇：          5~15%，

OP-10：           10~25%，

去离子水：        20~55%。

这样，该清洗液配方由溶剂无水乙醇、助剂正丁醇和正戊醇、非离子表面活性剂OP-10、去离子水组成，配方安全可靠，并不存在对玻璃基板透光性和反光性产生影响的原料组分。

一种制备TFT液晶玻璃基板清洗液的方法，该制备方法步骤中包括：

A、取料：按以上各组分及其各组分的质量百分含量关系备料；

B、搅拌：将无水乙醇、正丁醇、正戊醇、OP-10、去离子水按顺序依次加入搅拌器中，充分搅拌至均匀以得到清洗液；

C、装瓶：将清洗液装入玻璃器皿中，备用。

所述的无水乙醇的质量浓度大于99%。

所述的正丁醇的质量浓度大于99.9%。

所述的正戊醇的质量浓度大于99.9%。

所述的OP-10的质量浓度大于99.9%。

所述的去离子水的电阻率为7~9 MΩ??cm。

所述的正丁醇与正戊醇的质量比为2：1。