[发明专利]一种TFT液晶玻璃基板清洗液及其清洗方法

权利要求书

1.一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：上述清洗液配方组分及其各组分的质量百分含量为：

无水乙醇：        18~22%，

正丁醇：          10~30%，

正戊醇：          5~15%，

OP-10：           10~25%，

去离子水：        20~55%。

2.一种制备权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液的方法，其特征在于：该清洗液的制备方法步骤中包括：

A、取料：按以下各组分及其各组分的质量百分含量关系备料：

无水乙醇：        18~22%，

正丁醇：          10~30%，

正戊醇：          5~15%，

OP-10：           10~25%，

去离子水：        20~55%；

B、搅拌：将无水乙醇、正丁醇、正戊醇、OP-10、去离子水按顺序依次加入搅拌器中，充分搅拌至均匀以得到清洗液；

C、装瓶：将清洗液装入玻璃器皿中，备用。

3.根据权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：所述的无水乙醇的质量浓度大于99%。

4.根据权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：所述的正丁醇的质量浓度大于99.9%。

5.根据权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：所述的正戊醇的质量浓度大于99.9%。

6.根据权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：所述的OP-10的质量浓度大于99.9%。

7.根据权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：所述的去离子水的电阻率为7~9 MΩ??cm。

8.根据权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：所述的正丁醇与正戊醇的质量比为2：1。

9.与权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液配套用的玻璃基板清洗方法，该清洗方法的整个清洗过程是借助超声波清洗机完成的，其特征在于：所述的清洗方法步骤中包括：

a、去离子水清洗：将玻璃基板放入超声波清洗机中，用去离子水进行超声波清洗，水温控制在40℃~50℃，清洗10~15分钟；

b、清洗液清洗：用TFT液晶玻璃基板清洗液对玻璃基板进行超声波清洗30-60分钟，清洗温度控制在25~30℃；

c、二次去离子水清洗：再次用去离子水对玻璃基板进行超声清洗，清洗时间为15~20分钟，清洗温度为40℃~50℃。

10.根据权利要求9所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于：所述的超声波清洗机的超声波频率为40~80KHz。