[发明专利]直接方式的闪烁体面板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及医疗用X光照相装置的闪烁体（scintillator）面板及其制造方法，具体是在成像器件上直接蒸镀闪烁体层的直接方式的闪烁体面板及其制造方法。

背景技术

用于医疗的X光照相广泛利用不使用胶卷而使用放射线检测仪获得图像后传送到电脑以显示照相图片的数字放射线图像装置。

数字放射线图像装置根据其转换方式分为直接转换方式和间接转换方式，直接转换方式是将X光直接转换成电信号实现图像的方式，间接转换方式是将X光转换成可视光线之后使用光电二极管、CMOS、CCD传感器等成像器件将可视光线转换成电信号之后实现图像的方式。直接转换方式是施加高电压才能检测的，故间接转换方式被广泛利用。

间接转换方式利用将X光转换可视光线的闪烁体，根据将闪烁体的成像器件一体化的方式分为直接方式和间接方式。直接方式是将闪烁体层在成像器件上直接蒸镀形成闪烁体面板的方式，间接方式是先制造将闪烁体层在基板上蒸镀的闪烁体面板之后利用粘贴剂与成像器件结合。

韩国公开专利10-2011-0113482号（利用直接蒸镀方式的放射线图片传感器的制造方法）中公开了一种直接方式的闪烁体面板结构。

传统的直接方式的闪烁体面板具备保护膜而防止闪烁体层受潮，保护膜必须包括帕里纶膜。例如，由帕里纶膜形成的单层结构、由帕里纶膜+帕里纶膜形成的二层结构、由帕里纶+无机膜+帕里纶形成的三层结构等。

如上所述，传统的是必须包含聚对二甲苯（Polyparaxylylene）或帕里纶（Parylen）等聚合物系列的物质作为闪烁体层的保护膜，聚合物系列物质是被UV、X光等高能量光线照射就容易被破坏，随着聚合物系列保护膜逐渐老化，产品性会下降。聚合物系列物质可以弱化从闪烁体发生的可视区域的光线强度，导致显示的数据清晰度下降。为提高清晰度而增加入射的X光的强度则导致医院器械的功能衰减。因此需要研究出一种可以最大限度地接收从闪烁体发生的可视区光线的光学技术装置。

另外，传统的直接方式的闪烁体面板是需再具备将从闪烁体层生成的可视光线向成像器件方向反射的反射膜而造成其结构复杂的问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是针对传统的直接方式的闪烁体面板结构进行改造，简化结构，不需具备反射膜，可自由调节反射或透射的特性，简化结构和制造工艺，从而节省制造成本。

为实现所述目的，本发明的直接方式的闪烁体面板是由闪烁体层和氧化物层组成。

闪烁体层是在成像器件上形成的。

氧化物层是闪烁体层上形成的，可以透射X光，反射可视光线，阻断湿气透过。

本发明的直接方式的闪烁体面板中，氧化物层是由折射率处于1.0 以上、2.0以下的第一氧化物层和折射率处于2.0以上、3.0以下的第二氧化物层多个积层的结构。第一氧化物层是SiO₂层，第二氧化层是TiO₂层。氧化物层是可以将折射率接近所述闪烁体层折射率的氧化物层先在所述闪烁体层上积层。

本发明的直接方式的闪烁体面板中，还可以包括在氧化物层上积层且透射X光、阻断湿气透过的保护膜。

本发明的直接方式的闪烁体面板的制造方法，实施步骤包括：在成像器件上形成闪烁体层；在闪烁体层上形成透射X光，反射可视光线，阻断湿气透过的氧化物层。

本发明的直接方式的闪烁体面板的制造方法中，氧化物层的形成步骤是将折射率处于1.0 以上、2.0以下的第一氧化物层的形成步骤和折射率处于2.0 以上、3.0以下的第二氧化物层的形成步骤反复多次进行。第一氧化物层是SiO₂层，第二氧化物层是TiO₂层。在氧化物层的形成步骤中，可以将折射率接近所述闪烁体层折射率的氧化物层先在所述闪烁体层上积层。

本发明的直接方式的闪烁体面板的制造方法中，氧化物层的形成步骤是采用工艺压力几十至几百mTorr的溅射、工艺压力10^-5Torr以下的离子辅助真空蒸镀或基板倾斜公/自转方式。

本发明的直接方式的闪烁体面板的制造方法中，还可以包括在氧化物层上形成透射X光且阻断湿气透过的保护膜的步骤。

本发明具有的优点在于：

本发明提供的一种直接方式的闪烁体面板及其制造方法，闪烁体面板的结构中的氧化物层同时发挥保护功能和反射功能而不需具备反射膜。由此易于制造，减少费用，可根据氧化物层的积层数调节反射或透射的特性而可制造出具备所需反射特性的闪烁体面板。

附图说明