[发明专利]利用磁铁单元的溅射装置及其方法

权利要求书

1.一种溅射装置，其特征在于，包括：

腔体；以及

靶模块，其位于所述腔体内，并且具有靶源及产生磁场的至少一个磁铁单元，

其中，所述磁铁单元在溅射工序期间摆动。

2.根据权利要求1所述的溅射装置，其特征在于：

所述靶模块还包括背板，

其中，所述靶源形成于所述背板的外周面，所述磁铁单元以所述背板为基准，位于所述靶源的相反侧。

3.根据权利要求2所述的溅射装置，其特征在于，还包括：

被镀膜物固定支架，其支撑被镀膜物；以及

电源部，其向所述被镀膜物固定支架及所述背板提供电源，

其中，所述磁铁单元与所述被镀膜物固定支架相对向地排列，并且所述背板及所述被镀膜物固定支架分别起到阴极与阳极功能。

4.根据权利要求1所述的溅射装置，其特征在于：

所述靶模块包括两个磁铁单元，

其中，所述磁铁单元以所述靶模块的中心轴为基准相互对称地排列，并且具有相同的结构。

5.根据权利要求1所述的溅射装置，其特征在于：

所述靶源在所述溅射工序期间旋转。

6.一种用于溅射装置的靶模块，其特征在于，包括：

靶源；以及

磁铁部，其具有产生磁场的至少一个磁铁单元，

其中，所述磁铁部能够摆动。

7.根据权利要求6所述的用于溅射装置的靶模块，其特征在于，还包括：

背板，

其中，所述靶源形成于所述背板的外周面，所述磁铁部以所述背板为基准，位于所述靶源的相反侧。

8.根据权利要求6所述的用于溅射装置的靶模块，其特征在于：

所述磁铁部包括两个磁铁单元，

其中，所述磁铁单元以所述靶模块的中心轴为基准相互对称地排列，并且具有相同的结构。

9.根据权利要求6所述的用于溅射装置的靶模块，其特征在于：

所述靶源在溅射工序期间旋转。

10.一种溅射方法，其特征在于，包括：

生成离子的步骤；

通过产生磁场，而聚集所述离子的步骤；以及

所述离子溅射至靶源的步骤，

其中，在所述离子溅射至靶源的步骤期间，所述磁场的输出方向变化一次以上。

11.根据权利要求10所述的溅射方法，其特征在于：

产生所述磁场的磁铁单元面向被镀膜物方向，并且在预设角度范围内摆动。

12.根据权利要求10所述的溅射方法，其特征在于：

所述靶源在所述离子溅射至靶源的步骤期间持续旋转。