[发明专利]一种OLED像素结构和OLED显示装置无效
申请号: | 201310451132.1 | 申请日: | 2013-09-27 |
公开(公告)号: | CN103500752A | 公开(公告)日: | 2014-01-08 |
发明(设计)人: | 石领;永山和由;史世明 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 oled 像素 结构 显示装置 | ||
1.一种OLED像素结构,包括薄膜晶体管和OLED器件,所述薄膜晶体管中设置有驱动电极,所述驱动电极用于对所述OLED器件的发光与否进行控制,其特征在于,所述像素结构包括透射区和反射区,所述反射区内设置有由所述驱动电极延伸形成的反射层。
2.根据权利要求1所述的OLED像素结构,其特征在于,所述驱动电极包括栅极、以及同层设置的源极和漏极,所述反射层由所述栅极或所述漏极向所述像素结构中心延伸形成。
3.根据权利要求3所述的OLED像素结构,其特征在于,所述OLED器件为顶发射型结构,所述OLED器件包括相对设置的阳极和阴极,所述反射层设置于所述阳极的下方、且与所述阳极在正投影方向上部分重叠。
4.根据权利要求3所述的OLED像素结构,其特征在于,所述反射层与所述栅极或所述漏极采用相同的材料形成。
5.根据权利要求4所述的OLED像素结构,其特征在于,所述阳极和所述阴极采用透明电极材料或具有同等透明效果的金属合金材料形成,所述反射层采用铝、铜、钼、铝钕合金、铬、钛或银形成。
6.根据权利要求5所述的OLED像素结构,其特征在于,所述反射层与所述栅极或所述漏极采用同一构图工艺形成。
7.根据权利要求6所述的OLED像素结构,其特征在于,所述反射层的厚度等于所述栅极或所述漏极的厚度。
8.根据权利要求1-7任一项所述的OLED像素结构,其特征在于,所述反射区与所述透射区的面积比为1:1。
9.根据权利要求1-7任一项所述的OLED像素结构,其特征在于,所述薄膜晶体管包括顶栅型结构和底栅型结构,所述薄膜晶体管中为a-Si薄膜晶体管、低温多晶硅薄膜晶体管、氧化物薄膜晶体管或有机薄膜晶体管。
10.一种OLED显示装置,包括多个像素结构,其特征在于,所述像素结构采用权利要求1-9任一项所述的OLED像素结构。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310451132.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种布洛芬脂肪乳注射液及其制备方法
- 下一篇:汽车用轴向磁场永磁发电机
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的