[发明专利]柔性显示基板及其制备方法、柔性显示装置

权利要求书

1.一种柔性显示基板，包括柔性基底，其特征在于，所述柔性显示基板还包括：

设于柔性基底上的、能反射紫外光而透过可见光的紫外光反射层，其包括由交替的第一透明材料层与第二透明材料层组成的层叠结构，其中两种透明材料层数量相等且各有至少2层；且两透明材料层还满足：4nd=λ，其中d为任一透明材料层厚度，n为该透明材料层的折射率，λ为紫外光波长；

设于所述紫外光反射层上方的显示结构。

2.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，

所述第一透明材料层为厚度36nm的氮化硅层；

所述第二透明材料层为厚度52nm的二氧化硅层。

3.根据权利要求2所述的柔性显示基板，其特征在于，还包括：

与所述层叠结构中最外侧的氮化硅层相邻的、厚度为52nm的附加二氧化硅层；

与所述层叠结构中最外侧的二氧化硅层相邻的、厚度为23.76nm的附加氮化硅层。

4.根据权利要求2所述的柔性显示基板，其特征在于，

所述第一透明材料层层数为2至6层。

5.根据权利要求4所述的柔性显示基板，其特征在于，

所述第一透明材料层层数为4层。

6.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，

所述第一透明材料层为厚度30nm的二氧化钛层；

所述第二透明材料层为厚度52nm的二氧化硅层。

7.根据权利要求6所述的柔性显示基板，其特征在于，

所述第一透明材料层层数为2至5层。

8.根据权利要求7所述的柔性显示基板，其特征在于，

所述第一透明材料层层数为3层。

9.根据权利要求1至8中任意一项所述的柔性显示基板，其特征在于，

所述柔性基底由有机柔性材料制成。

10.根据权利要求1至8中任意一项所述的柔性显示基板，其特征在于，

所述柔性显示基板为柔性阵列基板；

所述显示结构包括低温多晶硅薄膜晶体管。

11.根据权利要求1至8中任意一项所述的柔性显示基板，其特征在于，

所述柔性显示基板为柔性阵列基板，所述显示结构包括薄膜晶体管；

所述柔性显示基板还包括：位于所述薄膜晶体管外侧的附加紫外光反射层。

12.一种权利要求1至11中任意一项所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在基底上形成柔性材料层；

在柔性材料层上形成所述紫外光反射层，其包括：交替形成第一透明材料层与第二透明材料层，得到层叠结构；

形成显示结构；

通过激光剥离的方式使柔性材料层与基底分离，得到柔性显示基板。

13.根据权利要求12所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，所制备的柔性显示基板为柔性阵列基板，所述显示结构包括低温多晶硅薄膜晶体管；所述形成显示结构包括：

形成非晶硅层；

通过激光退火将非晶硅层转变为多晶硅层。

14.一种柔性显示装置，包括权利要求1至11中任意一项所述的柔性显示基板。