[发明专利]一种促进制种豇豆高产的物理调控方法无效
申请号: | 201310435807.3 | 申请日: | 2013-09-23 |
公开(公告)号: | CN103460959A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 赵九红 | 申请(专利权)人: | 句容市植保植检站 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00;A01C21/00;A01G9/12 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 王云 |
地址: | 212400*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 促进 制种 豇豆 高产 物理 调控 方法 | ||
技术领域
本发明属于复合肥料领域,特别涉及一种促进制种豇豆高产的物理调控方法。
背景技术
豇豆口感脆嫩,营养丰富,蛋白质含量高,富含粗纤维、碳水化合物、维生素和铁、磷、钙等元素,且适应性强,栽培范围广,是我国夏秋季节主要蔬菜之一。我国是长豇豆次生起源中心,栽培历史悠久,品种资源丰富,拥有种质资源近千份,在育种方面也取得了很大进展。但是,由于豇豆属于非主要农作物,种子管理部门对豇豆品种管理较主要农作物松散,目前,我国豇豆良种专业化生产基地较少,制种技术不规范,良种繁育技术不高。对于豇豆制种,多数豇豆种子生产单位还是采取粗放的栽培方式,特别是在播种排布、追肥方法、支架方法上没有专门量化研究,结果产量不高;效益偏低,一季亩效益不超过2500元。
发明内容
发明目的:针对现有技术的不足,本发明的目的是提供一种促进制种豇豆高产的物理调控方法。
技术方案:为了解决上述即使问题,本发明提供一种促进制种豇豆高产的物理调控方法,在播种排布阶段采取宽窄行播种,宽行60cm、窄行45cm,株距45cm不变的播种排布方式,4行一垄,垄宽170cm,垄高20-22cm,操作沟宽30cm。
在追肥期间,追肥方式采取在四穴豇豆中间距每穴豇豆25-28cm处打洞施肥。
制种豇豆栽培的支架方法采用正四棱锥型方法,四穴豇豆为正四棱锥底部四点,靠每穴豇豆旁边插一根竹竿,四根竹竿斜向中心点搭汇一起用稻草或者塑料绳扎紧,形成正四棱锥型,竹竿离地面1.2~1.3m。
所述追肥肥料为硫酸铵肥料。冬季加强覆盖、保温,加强采光,经常擦棚膜,使其透光良好,最好在棚内挂反光幕。在豆角开花前,亩追施硫酸铵15公斤。结荚期每10~15天追肥一次,每次施硫酸铵15~20公斤。有条件的,开花后晴天每天上午追施二氧化碳气肥,施后2小时适当通风。
传统播种排布是株距25~30厘米,行距67~70厘米,或者株距20~25cm,行距60~66cm,株行距比例在1:2.3-3之间,密度2500穴到4000穴不等;采取宽窄行播种、4行一垄间隔操作沟、操作沟兼排水沟功能,既保证了每亩3000穴的密度,又达到了最佳通风透光、采择豆荚方便的效果;传统追肥方法是穴施,在每列豇豆两株间距豇豆10-15cm处进行打洞施肥;采用四穴中心部位打洞追肥可以减少一半劳动量,而且可以避免靠根过近造成根的折伤和肥料烧根现象,促进养分快速吸收,最大限度发挥肥效,防止采收盛期过后生长缓慢、伏歇现象;由于制种豇豆栽培采用春、夏季露地直播的方式。传统支架方法是抽蔓时立支架,竹竿3~5根一束,搭成“人”字形架,在主蔓伸长后引蔓上架,这样最大的问题是遇到大风天气架子极易被吹到,同时透光通风效果也不好。采用正四棱锥型支架方法,可以稳定结构,不仅抗风,利于透光通风,增加茎叶活力,防止早衰,促侧芽萌发,减少病虫害发生,促进花序增多,致使豇豆荚长、荚多、粒多,产量提高。
有益效果:与现有技术相比,本发明具有以下优点:通过对豇豆制种环节播种排布、追肥方法、支架方法进行量化研究,总结最佳播种排布、追肥方法、支架方法,通过这一系列方法应用能提高豇豆产量30~50%。
附图说明
图1田间播种示意图
其中附图标记 1 为操作沟,2 为播种穴,3 为种植垄。
具体实施方式
根据下述实施例,可以更好地理解本发明。然而,本领域的技术人员容易理解,实施例描述仅用于说明本发明,不应当也不会限制权利要求书中所详细描述的本发明。
实施例1
一种促进制种豇豆高产的物理调控方法,在播种排布阶段采取宽窄行播种,宽行60cm、窄行45cm,株距45cm不变的播种排布方式,4行一垄,垄宽170cm,垄高20cm,操作沟宽30cm。
在追肥期间,追肥方式采取在四穴豇豆中间距每穴豇豆25cm处打洞施肥。
制种豇豆栽培的支架方法采用正四棱锥型方法,四穴豇豆为正四棱锥底部四点,靠每穴豇豆旁边插一根竹竿,四根竹竿斜向中心点搭汇一起用稻草或者塑料绳扎紧,形成正四棱锥型,竹竿离地面1.2m。
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