[发明专利]一种促进制种豇豆高产的物理调控方法

权利要求书

1.一种促进制种豇豆高产的物理调控方法，其特征在于：在播种排布阶段采取宽窄行播种，宽行60cm、窄行45cm，株距45cm不变的播种排布方式，4行一垄，垄宽170cm，垄高20-22cm，操作沟宽30cm。

2.根据权利要求1所述的一种促进制种豇豆高产的物理调控方法，其特征在于：在追肥期间，追肥方式采取在四穴豇豆中间距每穴豇豆25-28cm处打洞施肥。

3.根据权利要求1或2任一项所述的一种促进制种豇豆高产的物理调控方法，其特征在于：制种豇豆栽培的支架方法采用正四棱锥型方法，四穴豇豆为正四棱锥底部四点，靠每穴豇豆旁边插一根竹竿，四根竹竿斜向中心点搭汇一起用稻草或者塑料绳扎紧，形成正四棱锥型，竹竿离地面1.2～1.3m。

4.根据权利要求2所述的一种促进制种豇豆高产的物理调控方法，其特征在于：所述追肥肥料为硫酸铵肥料。