[发明专利]化学清洗装置

权利要求书

1.一种化学清洗装置，其特征在于，包括：

储液箱，所述储液箱用于盛放化学清洗液；

位于所述储液箱顶部的主送管道，用于将化学清洗液自储液箱外部输送至储液箱内部，所述主送管道自所述储液箱外部通入所述储液箱内部，且所述主送管道伸入储液箱内的长度可调；

位于所述储液箱内部的若干分液管道，所述分液管道的一端与所述主送管道连通，所述分液管道的另一端向储液箱的侧壁方向延伸且高于化学清洗液的液面，用于将主送管道内的化学清洗液分流至若干分液管道内，并通过所述分液管道向储液箱内输送化学清洗液，所述分液管道与主送管道之间具有夹角，且所述夹角大小可调；

位于所述储液箱内侧壁表面的引流装置，用于分散所述分液管道送出的化学清洗液，并使所述化学清洗液通过所述引流装置的引导流入储液箱内，所述分液管道朝向储液箱侧壁一端的活动范围在所述引流装置覆盖的范围内，且所述分液管道到引流装置具有预设距离；

位于所述储液箱底部的输出管道，用于将储液箱中的化学清洗液输送出所述储液箱。

2.如权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于，所述引流装置包括：若干垂直设置于储液箱侧壁表面的引流层，若干引流层之间相互平行，所述引流层相对于储液箱内的化学清洗液的液面倾斜，相邻引流层之间构成引流沟槽。

3.如权利要求2所述化学清洗装置，其特征在于，所述引流装置还包括：位于至少一道引流沟槽内的至少一个引流通道，所述引流通道的两端分别与两道引流沟槽相互贯通。

4.如权利要求3所述化学清洗装置，其特征在于，当位于同一引流沟槽内的引流通道数量大于1时，位于同一引流沟槽内的引流通道之间的距离为5厘米～15厘米。

5.如权利要求3所述化学清洗装置，其特征在于，位于相邻两道引流沟槽内的引流通道的位置相互交错。

6.如权利要求3所述化学清洗装置，其特征在于，所述引流通道的侧壁与引流层连接，且所述引流通道的侧壁垂直于储液箱的侧壁表面。

7.如权利要求2所述化学清洗装置，其特征在于，所述引流层表面具有若干凸部。

8.如权利要求7所述化学清洗装置，其特征在于，所述凸部的形状为圆形、矩形、锥形中的一种或多种。

9.如权利要求2所述化学清洗装置，其特征在于，相邻两层引流层之间的距离为8厘米～12厘米。

10.如权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于，所述引流装置环绕所述储液箱的内侧壁表面一周；所述引流装置的底部等于或高于储液箱内的化学清洗液的液面。

11.如权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于，还包括：位于所述储液箱的内侧壁表面的台阶装置，所述台阶装置的底部设置于所述储液箱的底部，所述台阶装置的顶部低于或等于所述引流装置的底部，所述台阶装置自储液箱底部向顶部逐级递减，所述台阶装置的顶部高于或等于储液箱内的化学清洗液的液面。

12.如权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于，所述储液箱为圆柱形，所述分液管道的数量为1～2πr/L，其中，r为所述储液箱的半径，L为相邻分液管道向引流装置延伸一端之间的距离，且若干分液管道之间的夹角相等。

13.如权利要求12所述化学清洗装置，其特征在于，所述相邻分液管道向引流装置延伸一端之间的距离L为31.7厘米～34.9厘米。

14.如权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于，所述分液管道到引流装置的预设距离为4.8厘米～7.3厘米。

15.如权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于，当所述分液管道向引流装置输出化学清洗液的速率越快，所述分液管道朝向引流装置的一端到化学清洗液的液面之间距离越小。

16.如权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于，所述储液箱包括内壁和外壁，所述内壁和外壁之间具有密闭空腔，所述空腔内具有氮气。

17.如权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于，所述输出管道与过滤装置连接，所述过滤装置用于过滤去除化学清洗液中的杂质。

18.如权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于，还包括：处理腔室，所述输出管道与所述处理腔室连接，使储液箱中的化学清洗液通过输出管道进入处理腔室，以进行化学清洗工艺。