[发明专利]清洗基板方法、流体喷头及流体喷头装置

权利要求书

1.一种清洗基板方法；其特征在于：该清洗基板方法，包含以下步骤：

(A)使处理液溶解有二氧化碳，以形成二次处理液；

(B)将气体与二次处理液通入一流体喷头，且气体挤压二次处理液向下流动；

(C)二次处理液自该流体喷头喷出至一基板上；及

(D)二氧化碳从二次处理液中释出，以增加处理液接触基板表面的冲击力。

2.根据权利要求1所述清洗基板方法，其特征在于：该步骤(A)的处理液为去离子水。

3.一种应用权利要求1所述清洗基板方法的流体喷头，其特征在于：该流体喷头包括

一喷头本体，包括一第一内侧壁面、一沿一第一方向与该第一内侧壁面相间隔的第二内侧壁面、一连接该第一内侧壁面及该第二内侧壁面的内底壁面，及一相反于该内底壁面的外底壁面；

一容室，形成于该喷头本体且沿该第一方向延伸，该容室的两相反侧分别为该第一内侧壁面及该第二内侧壁面，该容室的底面为该内底壁面；

一进气管，设置于该喷头本体的上方并连通该容室；

一进液管，沿该第一方向延伸且一端连接该第二内侧壁面，并包括一邻近该第一内侧壁面的进液口，及至少一相反于该进气管一侧且连通该容室并沿该第一方向延伸的喷出口；及

多个喷射流道，彼此沿该第一方向相间隔并形成于该喷头本体，且连通该喷头本体的该内底壁面及该外底壁面。

4.根据权利要求3所述流体喷头，其特征在于：该进液管的喷出口数量为二个并彼此相间隔。

5.根据权利要求4所述流体喷头，其特征在于：该进气管设置于该喷头本体中央的上方，定义一通过该进气管的轴线，所述喷出口相对于该轴线倾斜一倾角。

6.根据权利要求3所述流体喷头，其特征在于：所述喷射流道呈狭长状。

7.一种应用权利要求1所述清洗基板方法的流体喷头装置，其特征在于：该流体喷头装置包含：

二流体喷头，其左右设置，各该流体喷头包括

一喷头本体，包括一第一内侧壁面、一沿一第一方向与该第一内侧壁面相间隔的第二内侧壁面、一连接该第一内侧壁面及该第二内侧壁面的内底壁面，及一相反于该内底壁面的外底壁面；

一容室，形成于该喷头本体且沿该第一方向延伸，该容室的两相反侧分别为该第一内侧壁面及该第二内侧壁面，该容室的底面为该内底壁面；

一进气管，设置于该喷头本体的上方并连通该容室；

一进液管，沿该第一方向延伸且一端连接该第二内侧壁面，并包括一邻近该第一内侧壁面的进液口，及至少一相反于该进气管一侧且连通该容室并沿该第一方向延伸的喷出口；及

多个喷射流道，彼此沿该第一方向相间隔并形成于该喷头本体，且连通该喷头本体的该内底壁面及该外底壁面。

8.根据权利要求7所述流体喷头装置，其特征在于：各该进液管的喷出口数量为二个并彼此相间隔。

9.根据权利要求8所述流体喷头装置，其特征在于：各该进气管设置于对应的该喷头本体中央的上方，并定义一通过对应的该进气管的轴线，各该喷出口相对于对应的该轴线倾斜一倾角。

10.根据权利要求7所述流体喷头装置，其特征在于：所述喷射流道呈狭长状，各该喷头本体还包括一第一外侧面，所述喷头本体的各该第一外侧面位于该流体喷头装置的两相反侧，所述喷射流道自对应的该内底壁面朝对应的该第一外侧面倾斜延伸至对应的该外底壁面。