[发明专利]用于检测综合验光仪的光学系统、光学检测装置和方法

权利要求书

1.一种用于检测综合验光仪的光学系统，其特征在于，包括：

分光元件（10）；

第一物镜（20）；

第一反光元件（30），所述第一反光元件（30）设置在所述分光元件（10）和所述第一物镜（20）之间，且所述分光元件（10）和所述第一物镜（20）均位于所述第一反光元件（30）的反射光路中；

分划板（40），所述分划板（40）上具有基准图案，所述分划板（40）位于所述分光元件（10）的反射光路中，且所述分划板（40）设置于所述第一物镜（20）的物方焦点上；

调焦元件（50），所述第一物镜（20）设置在所述调焦元件（50）和所述第一反光元件（30）之间；

第二物镜（60），所述第二物镜（60）设置在所述调焦元件（50）和所述第一物镜（20）之间，所述调焦元件（50）与所述第二物镜（60）之间的距离可调节；

成像元件（70），所述成像元件（70）位于所述分光元件（10）的出射光路中。

2.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统还包括第二反光元件（80），所述第二反光元件（80）设置在所述调焦元件（50）与所述第二物镜（60）之间，且所述调焦元件（50）与所述第二物镜（60）位于所述第二反光元件（80）的反射光路中。

3.根据权利要求2所述的光学系统，其特征在于，所述第二物镜（60）是聚焦物镜。

4.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述成像元件（70）是电荷耦合元件。

5.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统还包括光阑（90），所述光阑（90）设置在所述第一物镜（20）和所述第二物镜（60）之间。

6.一种用于检测综合验光仪的光学检测装置，其特征在于，包括：

基座（100）；

光学系统，所述光学系统是权利要求1至5中任一项所述的用于检测综合验光仪的光学系统，所述光学系统设置在所述基座（100）上；

发光元件（200），所述发光元件（200）设置在所述基座（100）上，且所述发光元件（200）朝向所述光学系统的分划板（40）设置；

测量单元（300），用于检测所述光学系统的调焦元件（50）的移动距离。

7.根据权利要求6所述的光学检测装置，其特征在于，所述光学检测装置还包括：

平行光管（400），所述平行光管（400）垂直设置在所述基座（100）上，所述平行光管（400）具有透光孔（410），所述光学系统的分光元件（10）设置在所述平行光管（400）内，所述分划板（40）、所述透光孔（410）和所述分光元件（10）同轴设置，所述光学系统的第一反光元件（30）和第一物镜（20）设置在所述平行光管（400）的上端，所述成像元件（70）设置在所述平行光管（400）的下端；

导向管（500），所述导向管（500）的第一端与所述基座（100）连接，所述光学系统的第二物镜（60）设置在所述导向管（500）的第二端，所述第一物镜（20）与所述第二物镜（60）对向且同轴设置，所述光学系统的调焦元件（50）滑动设置在所述导向管（500）内。

8.根据权利要求7所述的光学检测装置，其特征在于，所述光学检测装置还包括导杆（600），所述导杆（600）的至少一部分设置在所述导向管（500）内，且所述导杆（600）的第一端与所述调焦元件（50）连接。

9.一种光学检测方法，其特征在于，包括：

步骤S10：将待检测设备放置在权利要求1至5中任一项所述的光学系统中，并位于所述光学系统的第一物镜（20）与第二物镜（60）之间；

步骤S20：调节调焦元件（50）的位置，以改变所述调焦元件（50）与所述第二物镜（60）之间的距离，直至分划板（40）上的基准图案清晰的显示在成像元件（70）上为止；

步骤S30：根据所述调焦元件（50）的移动距离计算所述待检测设备的性能参数。

10.根据权利要求9所述的光学检测方法，其特征在于，所述步骤S30中的所述性能参数为顶焦度，根据下述公式（1）确定所述待检测设备的所述顶焦度为：

φ=-zf′2+xz---(1)]]>

其中，φ为所述顶焦度，z为所述调焦元件（50）的所述移动距离，x为所述待检测设备的参考平面与所述第二物镜（60）的物像焦点的距离，f'为所述第二物镜（60）的像方焦距。