[发明专利]一种用于芯片显影工艺的工艺喷嘴

说明书

技术领域

本发明涉及芯片显影工艺领域，具体涉及一种用于芯片显影工艺的工艺喷嘴。

背景技术

目前，显影工艺发展要求晶圆直径越来越大，显影线宽越来越小（90nm线宽或者更小）。这要求显影喷嘴可以在至少300mm的长度方向上进行均匀的流量分配，且要求出口流体对晶圆的工作表面具有较小的冲击。传统使用的流量分配的结构为简单的T型三通管结构，并沿着三通管长度方向开孔进行流体的输出。该种结构在晶圆直径较小的时候可以使用，但随着晶圆直径的加大，三通管的长度也会加大，其内部流体沿着管道从中心流向两端时会有较大的延程压力损失，造成流道内部压力分配不均匀，从而导致沿着长度方向分布的出口孔的出流流体流量不一致，容易形成局部显影缺陷。同时，从细小的出流孔流出的显影液具有较大的流速，这会破坏晶圆表面的光刻胶形状，严重影响显影质量。

发明内容

鉴于现有芯片显影工艺中工艺喷嘴存在的显影液压力流量分布不均的问题，本发明提供了一种用于芯片显影工艺的工艺喷嘴，通过对显影液流道设计，能够在较长长度上进行均匀的流量分配，为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案。

一种用于芯片显影工艺的工艺喷嘴，包括：喷嘴主体和挡流板；所述喷嘴主体包括一呈U型的主腔室，以及位于所述主腔室两侧且与所述主腔室相连通的显影液入口和显影液出口；所述挡流板的横截面呈T型，插装于所述主腔室，所述挡流板密封所述主腔室口部，所述挡流板的两T形端面贴于所述主腔室的腔壁；所述显影液入口和显影液出口分别位于所述挡流板的两侧，所述挡流板与所述主腔室之间的空间形成U型显影液流道。

进一步地，所述显影液出口为狭缝。

进一步地，所述挡流板包括盖板法兰和从所述盖板法兰垂直延伸出的挡板。

进一步地，所述主腔室口部设置固定法兰，所述盖板法兰与所述固定法兰通过螺钉固定连接。

进一步地，所述盖板法兰与所述固定法兰之间设置O型密封圈，所述O型密封圈嵌入所述固定法兰上的密封圈槽内。

进一步地，所述显影液入口与所述固定法兰的下端相接触，所述显影液出口中心线的高度不大于所述显影液入口轴线的高度。

进一步地，所述显影液入口位于所述喷嘴主体长度方向上、所述喷嘴主体的中部。

进一步地，所述挡板的横截面为U形。

进一步地，所述主腔室长度方向上的两端设置与所述主腔室相接的插槽，所述挡板的两端与插槽配合接触。

进一步地，所述显影液出口与所述主腔室在长度方向上一致。

本发明工艺喷嘴用于集成电路芯片显影工艺中显影液的输出，能够解决现有显影液输出时存在的流量分配不均的问题，该工艺喷嘴中显影液流道内部压力均匀，对晶圆的工作表面冲击小，能够用于较长长度的显影线的形成，满足显影工艺发展的要求。

附图说明

图1为本发明用于芯片显影工艺的工艺喷嘴实施例的结构示意图；

图2为图1中圈示部分的放大图；

图3为图1的截面图；

图4为图1中挡流板的侧视图；

图5为图1中喷嘴主体的截面图；

图6为图5中喷嘴主体的俯视图。

具体实施方式

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

参照图1-6，所示为本发明用于芯片显影工艺的工艺喷嘴实施方式1，该工艺喷嘴包括喷嘴主体1和挡流板2。

喷嘴主体1主要包括主腔室11、显影液入口12、显影液出口13和固定法兰14。主腔室11呈U型，显影液入口12和显影液出口13分别位于主腔室11的两侧，且与主腔室11相连通。为了方便显影液的快速输入，显影液入口12能够与快速接头连接，快速接头将显影液输出至显影液入口12。显影液出口13为长直的狭缝，该狭缝与主腔室11在长度方向上一致，即从主腔室11的宽度方向上看，该狭缝的两端与主腔室的两端重合，该狭缝的宽度与主腔室11在该处的壁厚相同。主腔室11的口部设置固定法兰14，显影液入口12与固定法兰14的下端相接触，显影液出口13与显影液入口12的高度大致相等，如图3所示，显影液出口13略低于显影液入口12的中心。