[发明专利]一种用于芯片显影工艺的工艺喷嘴有效

专利信息
申请号: 201310379709.2 申请日: 2013-08-28
公开(公告)号: CN103472693A 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 刘学平;王汉;向东;牟鹏;徐强;段广洪 申请(专利权)人: 清华大学深圳研究生院
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30;B05B1/30
代理公司: 深圳市汇力通专利商标代理有限公司 44257 代理人: 茅秀彬;王锁林
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 芯片 显影 工艺 喷嘴
【权利要求书】:

1.一种用于芯片显影工艺的工艺喷嘴,其特征在于,包括:喷嘴主体和挡流板;

所述喷嘴主体包括一呈U型的主腔室,以及位于所述主腔室两侧且与所述主腔室相连通的显影液入口和显影液出口;

所述挡流板的横截面呈T型,插装于所述主腔室,所述挡流板密封所述主腔室口部,所述挡流板的两T形端面贴于所述主腔室的腔壁;所述显影液入口和显影液出口位于所述挡流板的两侧,所述挡流板与所述主腔室之间的空间形成U型显影液流道。

2.根据权利要求1所述的工艺喷嘴,其特征在于,所述显影液出口为狭缝。

3.根据权利要求1或2所述的工艺喷嘴,其特征在于,所述挡流板包括盖板法兰和从所述盖板法兰垂直延伸出的挡板。

4.根据权利要求3所述的工艺喷嘴,其特征在于,所述主腔室口部设置固定法兰,所述盖板法兰与所述固定法兰通过螺钉固定连接。

5.根据权利要求4所述的工艺喷嘴,其特征在于,所述盖板法兰与所述固定法兰之间设置O型密封圈,所述O型密封圈嵌入所述固定法兰上的密封圈槽内。

6.根据权利要求4所述的工艺喷嘴,其特征在于,所述显影液入口与所述固定法兰的下端相接触,所述显影液出口中心线的高度不大于与所述显影液入口轴线的高度。

7.根据权利要求6所述的工艺喷嘴,其特征在于,所述显影液入口位于所述喷嘴主体长度方向上、所述喷嘴主体的中部。

8.根据权利要求3所述的工艺喷嘴,其特征在于,所述挡板的横截面为U形。

9.根据权利要求3所述的工艺喷嘴,其特征在于,所述主腔室长度方向上的两端设置与所述主腔室相接的插槽,所述挡板的两端与插槽配合接触。

10.根据权利要求1或2所述的工艺喷嘴,其特征在于,所述显影液出口与所述主腔室在长度方向上一致。

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