[发明专利]一种磁体表面处理方法无效
申请号: | 201310375759.3 | 申请日: | 2013-08-26 |
公开(公告)号: | CN104419939A | 公开(公告)日: | 2015-03-18 |
发明(设计)人: | 薛慧力;姜兵;金国顺;孙其会 | 申请(专利权)人: | 北京中科三环高技术股份有限公司 |
主分类号: | C23G1/02 | 分类号: | C23G1/02 |
代理公司: | 北京航忱知识产权代理事务所(普通合伙) 11377 | 代理人: | 陈立航;郭红燕 |
地址: | 100190 北京市海淀区中*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁体 表面 处理 方法 | ||
1.一种磁体表面处理方法,包括:
对待处理磁体进行预处理的步骤;
使用酸洗液去除所述待处理磁体上缺陷层的步骤。
2.根据权利要求1所述的磁体表面处理方法,其特征在于,所述酸洗液由硝酸和水混合而成,
用所述酸洗液酸洗所述待处理磁体,然后在水中超声清洗所述待处理磁体,重复上述过程至少两次。
3.根据权利要求2所述的磁体表面处理方法,其特征在于,所述酸洗液中硝酸的浓度为10~150ml/L,用所述酸洗液酸洗所述待处理磁体,每次时间为10~100S,在水中超声清洗所述待处理磁体,每次时间为10~100S。
4.根据权利要求3所述的磁体表面处理方法,其特征在于,所述硝酸的浓度为40ml/L。
5.根据权利要求3所述的磁体表面处理方法,其特征在于,所述硝酸的浓度为50ml/L。
6.根据权利要求1所述的磁体表面处理方法,其特征在于,还包括在磁体表面镀保护层的步骤,所述在磁体表面镀保护层的步骤在所述使用酸洗液去除待处理磁体上缺陷层的步骤之后进行。
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