[发明专利]掩模条和使用掩模条制造有机发光二极管显示器的方法

说明书

公开了用于制造有机发光二极管（OLED）显示器的掩模条。在一个方面，掩模条以长度方向延展并固定到框架。框架包括以矩阵形式设置的多个掩模图案单元，其中开口图案包括基本平行于宽度方向的多个行以及基本平行于长度方向的多个列，宽度方向与长度方向相交。行分别具有朝向掩模图案单元的中心凹入的曲率，列分别具有朝向掩模图案单元的边缘凸出的曲率。

技术领域

所描述的技术概括地涉及使用掩模条制造有机发光二极管（OLED）显示器的方法。

背景技术

OLED显示器是包括空穴注入电极和电子注入电极的自发光型显示装置。OLED显示器是一种自发光型装置，其中从阳极注入的空穴和从阴极注入的电子在有机发射层中彼此复合并耗散以发光。而且，由于OLED显示器功耗低、亮度高、视角宽和响应速度高，所以作为用于商用的下一代显示装置而备受关注。

发明内容

一个创造性方面是用于减少开口图案的布置误差的掩模条和用于使用该掩模条制造有机发光二极管（OLED）显示器的方法。

另一方面是可减少在多个掩模条延展并固定到框架时所产生的开口图案的布置误差的掩模条，以及使用该掩模条制造有机发光显示装置的方法。

另一方面是通过预期在与延展方向相交的方向上的变形量和在延展方向上的变形量来减少开口图案的布置误差的掩模条，以及使用该掩模条制造有机发光显示器的方法。

另一方面是一种掩模条，在长度方向上延展并且固定至框架，该掩模条包括被布置为矩阵形式的多个掩模图案单元，其中开口图案包括基本平行于宽度方向的多个行以及基本平行于长度方向的多个列，宽度方向与长度方向相交，其中，每个行具有朝向掩模图案单元的中心凹入的曲率，以及每个列具有朝向掩模图案单元的边缘凸出的曲率。

行被形成为当它们更靠近掩模图案单元的长度方向的中心时具有更小的曲率。

列被形成为当它们更靠近掩模图案单元的宽度方向的中心时具有更小的曲率。

行分别被形成为当其从掩模图案单元的中心到达外部时具有更小的曲率。

列分别被形成为当其从掩模图案单元的中心到达外部时具有更小的曲率。

行分别被形成为相对于掩模图案单元的长度方向的中心是对称的。

列分别被形成为相对于掩模图案单元的宽度方向的中心是对称的。

掩模图案单元在长度方向上以基本规律的间隔设置，并且在掩模图案单元之间存在阻挡区域。

另一方面是用于制造有机发光二极管（OLED）显示器的方法，包括：提供框架；提供在长度方向上延展的掩模条，其中，掩模条包括被设置为矩阵形式的多个掩模图案单元，其中开口图案包括基本平行于宽度方向的多个行以及基本平行于长度方向的多个列，宽度方向与长度方向相交，其中，每个行具有朝向掩模图案单元的中心凹入的曲率，以及其中，每个列具有朝向掩模图案单元的边缘凸出的曲率；在长度方向上延展掩模条；以及将掩模条的两个端部固定至框架。

掩模条的延展包括将掩模条延展使得行和列可分别形成直线。

开口图案被形成使得设置在偶数行上的多个开口图案和设置在奇数行上的多个开口在长度方向上交替地设置。

附图说明

图1示出了根据示例性实施方式的包括掩模条的沉积掩模的示意图；

图2至图4示出了在掩模条被延展之前根据示例性实施方式的掩模条的一部分的放大俯视图；

图5示出了在掩模条被延展之后根据示例性实施方式的掩模条的一部分的放大俯视图；

图6示出了用于通过使用包括根据示例性实施方式的掩模条的沉积掩模将有机膜沉积在衬底上的沉积装置的截面图。