[发明专利]掩模条和使用掩模条制造有机发光二极管显示器的方法

权利要求书

1.一种掩模条，在长度方向上延展并且固定至框架，所述掩模条包括：

多个掩模图案单元，被布置为矩阵形式，每个掩模图案单元包括多个开口图案，所述多个开口图案布置在平行于宽度方向的多个行中以及平行于长度方向的多个列中，所述宽度方向与所述长度方向相交，

其中，除了被布置在所述长度方向上的中心处的行之外、所述多个行中的每一个具有朝向所述掩模图案单元的中心凹入的曲率，除了被布置在所述宽度方向上的中心处的列之外、所述多个列中的每一个具有朝向所述掩模图案单元的边缘凸出的曲率，

其中，所述多个行在它们被布置为更靠近所述掩模图案单元的长度方向的中心时具有更小的曲率，

其中，所述多个列在它们被布置为更靠近所述掩模图案单元的宽度方向的中心时具有更小的曲率。

2.如权利要求1所述的掩模条，其中，所述多个行中的每一个在它们被布置为更远离相应掩模图案单元的中心时具有更小的曲率。

3.如权利要求1所述的掩模条，其中，所述多个列中的每一个在它们被布置为更远离相应掩模图案单元的中心时具有更小的曲率。

4.如权利要求1所述的掩模条，其中，所述多个行中的每一个相对于所述掩模图案单元的长度方向的中心对称。

5.如权利要求1所述的掩模条，其中，所述多个列中的每一个相对于所述掩模图案单元的宽度方向的中心对称。

6.如权利要求1所述的掩模条，其中，所述掩模图案单元在所述长度方向上以规律的间隔设置，并且在所述掩模图案单元之间存在阻挡区域。

7.用于制造有机发光二极管显示器的方法，包括：

提供框架；

提供在长度方向上伸长的掩模条，其中，所述掩模条包括多个掩模图案单元，所述多个掩模图案单元被布置为矩阵形式，每个掩模图案单元包括多个开口图案，所述多个开口图案布置在平行于宽度方向的多个行中以及平行于长度方向的多个列中，所述宽度方向与所述长度方向相交，其中，除了被布置在所述长度方向上的中心处的行之外、所述多个行中的每一个具有朝向所述掩模图案单元的中心凹入的曲率，除了被布置在所述宽度方向上的中心处的列之外、所述多个列中的每一个具有朝向所述掩模图案单元的边缘凸出的曲率，其中，所述多个行在它们被布置为更靠近所述掩模图案单元的长度方向的中心时具有更小的曲率，以及其中，所述多个列在它们被布置为更靠近所述掩模图案单元的宽度方向的中心时具有更小的曲率；

在所述长度方向上延展所述掩模条；以及

将所述掩模条的两个端部固定至所述框架。

8.如权利要求7所述的方法，其中，延展步骤包括将所述掩模条延展使得所述多个行和所述多个列分别形成直线。

9.如权利要求8所述的方法，其中，布置在偶数行上的多个开口图案和布置在奇数行上的多个开口图案在所述长度方向上交替地布置。