[发明专利]一种水晶膜及其镀膜工艺

权利要求书

1.一种水晶膜，其特征在于：所述水晶膜厚度为30～40纳米，硬度达3.0GPA以上。

2.如权利要求1所述水晶膜的镀膜方法，其特征在于所述镀膜方法包括以下步骤：

a）将30～50℃的水通入以压电陶瓷和过氧化镁为主要成分的陶瓷磁芯后电离，得到镀膜剂和活性水的步骤；

b）将上述镀膜剂和活性水按照重量份数6～15:100均匀混合，得到水晶镀膜液的步骤；

c）待处理物表面进行处理使其带负电荷，将步骤b）中的水晶镀膜液通过高压冲洗机喷射到待处理物表面，析出玻璃成分的步骤；

d）上述带正电荷的水晶镀膜液中的玻璃成分与带负电荷的待处理物表面结和，同时和空气中的水分发生反应、自然固化、形成水晶膜的步骤。

3.根据权利要求2所述的镀膜方法，其特征在于：所述步骤a）中镀膜剂的有效成分为全氢聚硅氮烷。

4.根据权利要求3所述的镀膜方法，其特征在于：所述步骤b）中活性水水压保持1.7～1.9Kg。

5.根据权利要求2或3所述的镀膜方法，其特征在于：所述步骤c）待处理物为金属、瓷砖或玻璃。

6.根据权利要求2或3所述的镀膜方法，其特征在于：所述步骤c）高压冲洗机喷射压力为4.9MPa。