[发明专利]离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种玻璃及其制造方法，特别是一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃及其制造方法。

背景技术

现有的普通透明玻璃应用很广泛，其透射范围正好与太阳辐射光谱区域重合，因此，在透过可见光的同时，阳光中的红外线热能也能大量透过玻璃，而2.5～5um中红外波段的热能又被大量的吸收，对暖气发出的波长5um以上的热辐射，普通玻璃不能直接透过而是近乎完全吸收，并通过传导、辐射及与空气对流的方式将能热传递到室外，使室内的温度降低，另外，普通玻璃不能阻挡紫外线，易使室内的家俱和织物褪色，目前还有一种离线髙透低辐射镀膜玻璃，是由锡Sn、银Ag、镍铬NiCr和硅Si或锌Zn通过双端离线高真空磁控溅射技术生成的不同厚度金属化合物层和金属层组成的。该膜层对2.5-25μm波长范围的红外线辐射具有较高反射能力，但是，此种膜系对自然光的透过率最高只能达到75%，不能发挥自然光的高透过率和隔热节能的双重功效，且该膜层的化学稳定性和机械强度较差，无法广泛应用。

发明内容

本发明的目的是为了克服以上的不足，提供一种够很强的阻隔红外线，具有很好的隔热功效，同时也能实现自然光的高透过率82.5-83%的离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃及其制造方法。

本发明的目的通过以下技术方案来实现：一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃，包括玻璃基片，玻璃基片上依次设有第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx、第一金属镍铬NiCr、金属银Ag、第二金属镍铬NiCr、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，玻璃基片的厚度为3mm～15mm，第一氮化硅SiNx的厚度为37nm～45nm，第一氧化锌铝ZnAlOx的厚度为15nm～20nm，第一金属镍铬NiCr的厚度为1nm～5nm，金属银Ag的厚度为10nm～15nm，第二金属镍铬NiCr的厚度为1nm～5nm，第二氧化锌铝ZnAlOx的厚度为15nm～20nm，第二氮化硅SiNx的厚度为45nm～50nm。

本发明的进一步改进在于：玻璃基片的厚度为6mm，第一氮化硅SiNx的厚度为45nm，第一氧化锌铝ZnOx的厚度为20nm，第一金属镍铬NiCr的厚度为1nm，金属银Ag的厚度为13nm，第二金属镍铬NiCr的厚度为1.5nm，第二氧化锌ZnOx的厚度为20nm，第二氮化硅SiNx的厚度为50nm。

一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃的制备方法，包括以下步骤：

A：选择3～15mm玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；

B：将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10?3Pa，线速度设置为3米/分钟；

C：将玻璃基片送入镀膜室，依次设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为95KW～105KW，在玻璃基片上溅射第一层37nm～45nm的第一氮化硅SiNx；

D：设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为18KW～25KW，在玻璃基片上溅射第二层15nm～20nm的第一氧化锌铝ZnAlOx；

E：设置第三高真空磁控溅射镀膜设备的功率为1KW～2KW，在玻璃基片上溅射第三层0.5nm～1.5nm的第一金属镍铬NiCr；

F：设置第四高真空磁控溅射镀膜设备的功率为2KW～2.7KW，在玻璃基片上溅射第四层13nm～15nm的金属银Ag；

G：设置第五高真空磁控溅射镀膜设备的功率为1KW～2KW，在玻璃基片上溅射第五层0.5nm～1.5nm的第二金属镍铬NiCr；

H：设置第六高真空磁控溅射镀膜设备的功率为18KW～25KW，在玻璃基片上溅射第六层15nm～20nm的第二氧化锌铝ZnAlOx；

I：设置第七高真空磁控溅射镀膜设备的功率为110KW～120KW，在玻璃基片上溅射第七层45nm～55nm的第二氮化硅SiNx。

本发明与现有技术相比具有以下优点：在实现膜层的低辐射率和低传热性能的基础上，能够同时实现膜层对自然光的高透过率82.5-83%。

具体实施方式：

    为了加深对发明的理解，下面将结合实施例对本发明作进一步详述，该实施例仅用于解释本发明，并不构成对本发明保护范围的限定。