[发明专利]离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃及其制造方法

权利要求书

1.一种可钢离线高透净色低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，其特征在于：所述玻璃基片上依次设有第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx、第一金属镍铬NiCr、金属银Ag、第二金属镍铬NiCr、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，所述玻璃基片的厚度为3mm～15mm，所述第一氮化硅SiNx的厚度为37nm～45nm，所述第一氧化锌铝ZnAlOx的厚度为15nm～20nm，所述第一金属镍铬NiCr的厚度为1nm～5nm，所述金属银Ag的厚度为10nm～15nm，所述第二金属镍铬NiCr的厚度为1nm～5nm，所述第二氧化锌铝ZnAlOx的厚度为15nm～20nm，所述第二氮化硅SiNx的厚度为45nm～50nm。

2.根据权利要求1所述离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片的厚度为6mm，所述第一氮化硅SiNx的厚度为45nm，所述第一氧化锌铝ZnOx的厚度为20nm，所述第一金属镍铬NiCr的厚度为1nm，所述金属银Ag的厚度为13nm，所述第二金属镍铬NiCr的厚度为1.5nm，所述第二氧化锌ZnOx的厚度为20nm，所述第二氮化硅SiNx的厚度为50nm。

3.一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

A：选择3～15mm玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；

B：将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10?3Pa，线速度设置为3米/分钟；

C：将玻璃基片送入镀膜室，依次设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为95KW～105KW，在玻璃基片上溅射第一层37nm～45nm的第一氮化硅SiNx；

D：设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为18KW～25KW，在玻璃基片上溅射第二层15nm～20nm的第一氧化锌铝ZnAlOx；

E：设置第三高真空磁控溅射镀膜设备的功率为1KW～2KW，在玻璃基片上溅射第三层0.5nm～1.5nm的第一金属镍铬NiCr；

F：设置第四高真空磁控溅射镀膜设备的功率为2KW～2.7KW，在玻璃基片上溅射第四层13nm～15nm的金属银Ag；

G：设置第五高真空磁控溅射镀膜设备的功率为1KW～2KW，在玻璃基片上溅射第五层0.5nm～1.5nm的第二金属镍铬NiCr；

H：设置第六高真空磁控溅射镀膜设备的功率为18KW～25KW，在玻璃基片上溅射第六层15nm～20nm的第二氧化锌铝ZnAlOx；

I：设置第七高真空磁控溅射镀膜设备的功率为110KW～120KW，在玻璃基片上溅射第七层45nm～55nm的第二氮化硅SiNx。