[发明专利]一种测量分析系统在审

专利信息
申请号: 201310349924.8 申请日: 2013-08-13
公开(公告)号: CN104374419A 公开(公告)日: 2015-02-25
发明(设计)人: 葛晓春 申请(专利权)人: 苏州广海信息科技有限公司
主分类号: G01D21/00 分类号: G01D21/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215123 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 测量 分析 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种系统方法,尤其涉及一种测量分析系统。

背景技术

近年来,测量分析系统已逐渐成为企业质量改进中的一项重要工作,企业界和学术界都对测量系统分析给予了足够的重视。测量分析系统也已成为美国三大汽车公司质量体系的要素之一,是质量计划的一项重要内容。

发明内容

本发明的目的就是为了提高和改进企业质量工作,提供一种测量分析系统。

本发明的目的通过以下技术方案来实现:一种测量分析系统,其中:测量分析系统数据是通过测量获得的,测量是赋值给具体事物以表示他们之间关于特殊特性的关系。

更进一步地,上述的一种测量分析系统,其中:确定该测量系统是否具有所需要的统计特性,此项必须在使用前进行。

更进一步地,上述的一种测量分析系统,其中:发现哪种环境因素对测量系统有显着的影响,例如温度、湿度等,以决定其使用之空间及环境。

更进一步地,上述的一种测量分析系统,其中:目的是在验证一个测量系统一旦被认为是可行的,应持续具有恰当的统计特性。

更进一步地,上述的一种测量分析系统,其中:常见的就是“量具R&R”是其中的一种型式。

更进一步地,上述的一种测量分析系统,其中:在计划中明确所要进行分析的量具以及评价人、开始日期和预计完成日期等。

本发明技术方案的优点主要体现在:该测量系统处于统计控制中,这意味着测量系统中的变差只能是由于普通原因而不是由于特殊原因造成的,保证了系统的稳定性。测量系统的变差比制造过程的变差小,变差应小于公差带。测量精度应高于过程变差和公差带两者中精度较高者,一般来说,测量精度是过程变差和公差带两者中精度较高者的十分之一,且测量系统统计特性可随被测项目的改变而变化。

具体实施方式

一种测量分析系统,其特别之处在于:测量分析系统从测量的定义可以看出,除了具体事物外,参于测量过程还应有量具、使用量具的合格操作者和规定的操作程序,以及一些必要的设备和软件,再把它们组合起来完成赋值的功能,获得测量数据。这样的测量过程可以看作为一个数据制造过程,它产生的数据就是该过程的输出。这样的测量过程又称为测量系统。它的完整叙述是:用来对被测特性定量测量或定性评价的仪器或量具、标准、操作、夹具、软件、人员、环境和假设的集合,用来获得测量结果的整个过程称为测量过程或测量系统。

从统计质量管理的角度来看,测量系统分析实质上属于变异分析的范畴,即分析测量系统所带来的变异相对于工序过程总变异的大小,以确保工序过程的主要变异源于工序过程本身,而非测量系统,并且测量系统能力可以满足工序要求。测量系统分析,针对的是整个测量系统的稳定性和准确性,它需要分析测量系统的位置变差、宽度变差。在位置变差中包括测量系统的偏倚、稳定性和线性。在宽度变差中包括测量系统的重复性、再现性。

该系统处于统计控制中,这意味着测量系统中的变差只能是由于普通原因而不是由于特殊原因造成的,保证了系统的稳定性。测量系统的变差比制造过程的变差小,变差应小于公差带。测量精度应高于过程变差和公差带两者中精度较高者,一般来说,测量精度是过程变差和公差带两者中精度较高者的十分之一,且测量系统统计特性可随被测项目的改变而变化。

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