[发明专利]光照射装置及光测定装置有效
| 申请号: | 201310349305.9 | 申请日: | 2010-01-26 |
| 公开(公告)号: | CN103398947A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
| 发明(设计)人: | 片冈卓治;伊藤平良 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
| 主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 照射 装置 测定 | ||
1.一种光照射装置,其特征在于,
用于从微量盘的背面侧向该微量盘照射测定光,所述微量盘具有二维配置有用于容纳测定对象物的多个井的主面,及与该主面相对的背面,
所述光照射装置包含:
光源,输出从所述微量盘的背面侧向所述多个井分别照射的测定光;及
导光部件,使从所述光源输出的测定光在其内部传播,且具有:直接面对所述微量盘的背面的主面、与该主面相对的背面、及侧面,该侧面用于使来自所述光源的测定光导入夹持于该导光部件的主面及背面的该导光部件内,
所述导光部件包含从该导光部件的主面向该导光部件的背面延伸并在该导光部件的主面具有开口的多个凹部,
从该侧面入射至所述导光部件内的所述测定光,在多个所述凹部的各个侧面折射及反射,并从多个所述凹部各自的开口出射。
2.如权利要求1所述的光照射装置,其特征在于,
多个所述凹部分别是圆柱形状的低洼部。
3.如权利要求1或2所述的光照射装置,其特征在于,
多个所述凹部分别具有平坦的底面。
4.如权利要求1~3中任一项所述的光照射装置,其特征在于,
多个所述凹部的各自的底面被实施镜面加工。
5.如权利要求1~4中任一项所述的光照射装置,其特征在于,
所述光源由框架、多个LED、和滤光器构成。
6.如权利要求5所述的光照射装置,其特征在于,
多个所述LED以沿所述导光部件的侧面排列的状态,由所述框架所保持。
7.如权利要求5所述的光照射装置,其特征在于,
多个所述LED由出射互相不同的波长的光的2种LED构成。
8.如权利要求1所述的光照射装置,其特征在于,
多个所述凹部分别为方柱形状的低洼部。
9.如权利要求1所述的光照射装置,其特征在于,
多个所述凹部分别为,其剖面为梯形形状的低洼部。
10.如权利要求1~4中任一项所述的光照射装置,其特征在于,
多个所述凹部的各个,与所述微量盘的多个井的各个一对一对应,且被设置为宽度比多个所述井的各个的宽度宽。
11.如权利要求1~4中任一项所述的光照射装置,其特征在于,
多个凹部中的1个或1个以上的凹部,与所述微量盘的1个井对应。
12.如权利要求1~4中任一项所述的光照射装置,其特征在于,
所述光源被配置为,从所述导光部件的侧面中的、与多个所述凹部的各个和所述导光部件的背面之间的区域相对应的部分照射所述测定光。
13.一种光测定装置,其特征在于,
具备:
如权利要求1~12中任一项所述的光照射装置;及
微量盘,其具有二维配置有用于容纳测定对象物的多个井的主面、及与该主面相对的背面,且以直接面对设置于所述光照射装置的所述导光部件的主面上的多个凹部的开口的方式配置。
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