[发明专利]基板制造方法及基板制造装置有效

专利信息
申请号: 201310344687.6 申请日: 2013-08-08
公开(公告)号: CN103801489A 公开(公告)日: 2014-05-21
发明(设计)人: 白石达朗;冈本裕司 申请(专利权)人: 住友重机械工业株式会社
主分类号: B05D1/02 分类号: B05D1/02;B05C5/00;B05C11/10;B05C13/02
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 温旭;郝传鑫
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 制造 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种基板制造方法,其中,具有:

准备将定义应在基板上形成的薄膜的形状的光栅格式的图像数据压缩而成的压缩数据的工序;

测定所述基板的在面内方向上的变形量的工序;

根据所测定的所述变形量,通过对所述压缩数据以保持压缩格式的状态下实施像素的插入或去除处理来生成变形修正数据的工序;及

根据所述变形修正数据在所述基板上形成薄膜的工序。

2.根据权利要求1所述的基板制造方法,其中,

形成所述薄膜的工序包括:

使具有多个喷嘴孔的喷嘴单元以所述喷嘴孔沿第1方向排列的姿势与所述基板对置的工序;及

使所述基板及所述喷嘴单元的其中一方相对于另一方沿与所述第1方向交叉的第2方向移动的同时,使薄膜材料液滴断续吐出而形成所述薄膜的工序,

所述压缩数据在所述第1方向上被压缩,

在生成所述变形修正数据的工序中,根据所述基板的在所述第1方向上的变形量,对所述压缩数据实施像素的插入或去除处理。

3.根据权利要求2所述的基板制造方法,其中,

所述基板制造方法还具有如下工序:根据所述基板的在所述第2方向上的变形量,确定使所述喷嘴单元及所述基板的其中一方相对于另一方沿所述第2方向移动的移动速度、及来自所述喷嘴孔的薄膜材料液滴的吐出时刻中的至少一个。

在形成所述薄膜的工序中,以在确定所述移动速度及所述吐出时刻中的至少一个的工序中所确定的移动速度或吐出时刻来形成所述薄膜。

4.根据权利要求2或3所述的基板制造方法,其中,

在测定所述变形量的工序之后且形成所述薄膜的工序之前,还包括如下工序:根据在所述第1方向上的变形量,以使所述喷嘴孔的排列方向相对于所述第1方向倾斜的方式改变所述喷嘴单元的姿势。

5.一种基板制造装置,其中,包括:

载物台,保持基板;

喷嘴单元,设置有多个朝向保持在所述载物台上的基板吐出薄膜材料液滴的喷嘴孔;

移动机构,使所述载物台及所述喷嘴单元的其中一方相对于另一方移动;

位置检测装置,对在保持于所述载物台的基板上形成的标记的位置进行检测;及

控制装置,控制所述移动机构及所述喷嘴单元,

所述控制装置进行如下控制:

存储将光栅格式的图像数据压缩而成的压缩数据,其中所述光栅格式的图像数据定义应在所述基板上形成的薄膜的形状,

根据通过所述位置检测装置检测出的所述标记的位置,计算所述基板的面内方向的变形量,

根据计算出的所述变形量,通过对所述压缩数据以保持压缩格式状态下实施像素的插入或去除处理来生成变形修正数据,

根据所述变形修正数据,通过对所述移动机构及所述喷嘴单元进行控制来在所述基板上形成薄膜。

6.根据权利要求5所述的基板制造装置,其中,

所述喷嘴孔沿第1方向排列,

所述压缩数据在所述第1方向上被压缩,

所述控制装置进行如下控制:

根据所述基板的在所述第1方向上的变形量,通过对所述压缩数据实施像素的插入或去除处理来生成所述变形修正数据,

使所述基板及所述喷嘴单元的其中一方相对于另一方沿与所述第1方向交叉的第2方向移动的同时,使薄膜材料液滴从所述喷嘴孔断续吐出而形成所述薄膜。

7.根据权利要求6所述的基板制造装置,其中,

所述控制装置还进行如下控制:

根据所述基板的在所述第2方向上的变形量,确定使所述喷嘴单元及所述基板的其中一方相对于另一方沿所述第2方向移动的移动速度、及来自所述喷嘴孔的薄膜材料液滴的吐出时刻中的至少一个,

通过以确定的移动速度或吐出时刻对所述移动机构或所述喷嘴单元进行控制来形成所述薄膜。

8.根据权利要求6或7所述的基板制造装置,其中,

所述基板制造装置还具有姿势调整机构,所述姿势调整机构将所述喷嘴单元的姿势调整成使所述喷嘴孔的排列方向发生变化,

所述控制装置根据所述基板的在所述第1方向上的变形量,以所述喷嘴孔的排列方向相对于所述第1方向倾斜的方式改变所述喷嘴单元的姿势。

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