[发明专利]一种基片传输装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种基片传输装置，尤其涉及一种适用于真空系统中非接触式传送基片的传输装置。

背景技术

随着科学技术的迅猛发展，对工业工艺要求日益增高，真空技术在高科技产业化的发展中展现出广阔的应用前景，尤其体现在对真空环境要求极高的数码显示面板产业中。如有机发光显示器件(OLED，Organic Light-Emitting Diode) 面板的有机物蒸镀制程，在大尺寸玻璃基板上沉积有机膜层，其沉积掩膜精度为微米级，若沉积过程中存在颗粒污染，就会造成局部显示盲点，造成器件不合格，严重影响产品良品率。由于此类制程的工艺要求比较严格，即必须在真空状态下以及完全洁净的空间环境中进行，因此，有必要提供一种高清洁度、无污染、能够平稳以及具有较高可靠性的真空基片传输装置。

发明内容

为了克服现有的基片接触式传输系统平稳性和可靠性不高的不足，本发明旨在提供一种基片传输装置，该基片传输装置采用非接触式全自动传送，确保基片可以平稳、快速的在各工艺腔室内的传送，同时不会造成颗粒污染。

本发明进一步的目的是实现在真空状态下以及完全洁净的空间环境中进行平稳、快速的非接触式传送。

为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案是：

一种基片传输装置，其结构特点是，包括磁轨，悬浮于磁轨上方的承载基片用的基片载体，位于基片载体至少一侧的由驱动装置驱动转动的传动轮，所述传动轮与基片载体侧壁之间具有间隙；周向装有磁铁的所述传动轮驱动至少一侧面上装有磁铁的所述基片载体沿磁轨的长度方向移动。

由此，基片载体在传动轮的带动下，沿着磁轨悬浮移动，从而实现基片在基片载体可以沿着磁轨的长度方向平稳、快速的在各工艺腔室内的传送。

以下为本发明的进一步改进的技术方案：

根据本发明的实施例，为了基片载体平稳运行，所述磁轨为两排平行布置的磁体；所述基片载体下侧面设有与磁轨上侧面磁极相同的基片载体底部磁体，从而利用同性磁铁相斥的原理，实现悬浮的目的。更进一步地，所述磁轨的纵截面呈等腰梯形，所述基片载体底部磁体呈倒U形，所述磁轨与基片载体的U型永磁体对中布置，且倒U形开口两端磁极相同并向内倒角。

为了保证基片载体运行的平稳性，所述基片载体两侧面上均设有多个基片载体侧面磁铁。更进一步地，同一侧面的相邻两个所述基片载体侧面磁铁朝外的磁极相反，可以使得传动轮上的磁铁对基片载体产生一推一吸的目的，驱动基片载运动。

根据本发明的实施例，所述基片载体两侧均设有传动轮，每个传动轮周向设有多个永磁体，相邻的两个永磁体朝外的磁极相反，且传动轮上的相邻两个永磁体的展开间距与基片载体侧面相邻两个永磁体的间距相同。

为了更好地使传动轮对基片载体产生一推一吸的效果，所述基片载体两侧均设有多个传动轮，每个传动轮与基片载体侧面某相邻两个永磁体之间中点的距离最短。

更进一步地，所述磁轨、基片载体、传动轮均位于一真空腔体内，从而实现在真空状态下以及完全洁净的空间环境中进行平稳、快速的非接触式传送。

藉由上述结构，本发明所述的一种基片传输装置主要用于基片在各真空工艺腔室中传输，包括驱动装置、磁轨、传动轮以及承载基片用的基片载体。所述基片载体底部布置有两排永磁体，单个永磁体呈U型，开口向下，且开口两边磁极相同，并向内倒角。所述基片载体运动方向两侧面布置有对称的若干永磁体，均匀分布，且相邻的两个永磁体朝外的磁极相反。所述传动轮与驱动装置相连，对称均匀分布在基片载体两侧，接近基片载体但不直接接触，传动轮上四周均布有若干永磁体，相邻的两个永磁体朝外的磁极相反，且永磁体展开间距与基片载体上的侧面永磁体间距相同。所述磁轨分两排，对应分布在基片载体下方，截面形状上窄下宽，与基片载体底部U型永磁体对中布置，且近端磁极相同。