[发明专利]制备窄边框显示装置的方法有效
| 申请号： | 201310337313.1 | 申请日： | 2013-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN104345501B | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 李建;张伟;李鸿鹏;宋省勳 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1339 | 分类号： | G02F1/1339;G02F1/1337;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司11270 | 代理人： | 任媛,蒋雅洁 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备 边框 显示装置 方法 | ||
1.一种制备窄边框显示装置的方法，其特征在于，所述方法包括：
辐射处理位于基板的封合位置处的聚酰亚胺膜，使所述位于基板的封合位置处的聚酰亚胺膜产生自由基；
将封框胶涂覆在所述封合位置处，并进行固化；
进行所述固化步骤时，所述自由基与所述封框胶的第二活性基团形成化学键合，所述第二活性基团选自-COOH和-NH2。
2.根据权利要求1所述的制备窄边框显示装置的方法，其特征在于，所述聚酰亚胺膜具有选自-COO-、-OH和-NH2的第一活性基团。
3.根据权利要求1所述的制备窄边框显示装置的方法，其特征在于，所述聚酰亚胺膜具有位于支链上的-COO-。
4.根据权利要求1所述的制备窄边框显示装置的方法，其特征在于，所述辐射处理用发射线性紫外光的辐射源进行。
5.根据权利要求4所述的制备窄边框显示装置的方法，其特征在于，所述线性紫外光的波长为254nm，或313nm，或254nm和313nm。
6.根据权利要求5所述的制备窄边框显示装置的方法，其特征在于，所述线性紫外光的强度为1.0～4.0J/cm2。
7.根据权利要求2所述的制备窄边框显示装置的方法，其特征在于，所述第一活性基团经辐射后产生自由基。
8.根据权利要求1所述的制备窄边框显示装置的方法，其特征在于，所述基板为阵列基板或彩膜基板。
9.根据权利要求1所述的制备窄边框显示装置的方法，其特征在于，所述方法包括在进行所述辐射处理步骤之前，对所述聚酰亚胺膜进行取向处理。
10.根据权利要求4所述的制备窄边框显示装置的方法，其特征在于，所述辐射源通过辐射遮光罩对所述基板的封合位置进行辐射处理。
11.根据权利要求10所述的制备窄边框显示装置的方法，其特征在于，通过调节所述辐射遮光罩与所述基板之间的距离，来使所述辐射遮光罩的透光部分与所述基板的封合位置对齐。
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