[发明专利]有机EL用掩模清洁装置及方法

说明书

本分案申请是基于申请号为200910174768.X、申请日为2009年9月17日、发明名称为“有机EL用掩模清洁装置及方法、有机EL显示器及其制造装置”的中国专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及利用激光照射来进行有机EL用掩模的清洁的有机EL用掩模清洁装置、有机EL显示器的制造装置、有机EL显示器和有机EL用掩模清洁方法。

背景技术

有机EL（Electro Luminescence）显示器，作为不需要背照光的电力消耗低、轻量薄型的图像显示装置被广泛采用。其构造是，在透明性的玻璃基板上叠置着有机EL薄膜层，有机EL薄膜层是用阳极层和阴极层将发光层夹入的构造。作为发光层，多数是把有机材料蒸镀在玻璃基板上形成为薄膜，把构成显示器的各像素的区域分割成三部分、蒸镀RGB三色的有机材料。因此，为了把不同颜色的有机材料（有机色材料料）蒸镀在各像素的3个区域，要采用形成了多个开口部的有机EL用掩模（遮蔽掩模）进行蒸镀。一边将该有机EL用掩模相对于每个像素间距错开，一边蒸镀各色的蒸镀物质，这样，发光层的蒸镀工序完成。

进行蒸镀工序时，有机材料不仅附着在玻璃基板上，也附着在有机EL用掩模上。有机EL用掩模不只是在一个蒸镀工序中使用，而是反复使用，所以，进行下一个蒸镀工序时，如果蒸镀物质附着在有机EL用掩模上，则蒸镀物质会附着到新的玻璃基板上。另外，在形成在有机EL用掩模上的多个开口部的边缘部分，也蒸镀了有机材料，这样，使得开口部的面积部分地或全部地闭塞。开口部的全部面积被闭塞时自不必说，即使部分地闭塞而使得开口面积产生变化，就使得采用该有机EL用掩模的时蒸镀精度显著降低，另外，不耐用。因此，要定期地（优选在一个蒸镀工序完成后）对有机EL用掩模进行清洁，将蒸镀物质除去。

有机EL用掩模的清洁，主要是采用表面活性剂等的湿式清洁方式。湿式清洁是对有机EL用掩模供给液体进行清洁的方式。但是，被清洁的有机EL用掩模是微米极（数十微米左右）的极薄金属板，湿式清洁时，由于液压作用，会对有机EL用掩模造成扭曲、变形等大的损伤。另外，用表面活性剂等的药液进行湿式清洁时，需要药液供给机构和处理使用后药液（排液）的排液处理机构，所以，机构复杂化，另外，排液也造成环境污染。

另一方面，专利文献1公开了作为不采用湿式清洁药液的清洁、采用对有机EL用掩模照射激光的清洁（激光清洁）的技术。将激光照射在金属材料的有机EL用掩模上，使剥离力作用在有机EL用掩模与有机材料之间。在专利文献1的技术中，利用该剥离力，从有机EL用掩模上去除掉有机材料，进行清洁。

专利文献1：日本特开2006-169573号公报

发明内容

在专利文献1的技术中，对有机EL用掩模照射激光，使附着的有机材料剥离。但是，为了防止进行清洁的槽内或大气的污染，要使剥离后的有机材料不脱离有机EL用掩模。为此，为了除去剥离后的有机材料，采用有粘性的薄膜。该薄膜具有转移该剥离后有机材料的粘着力，在把薄膜粘贴在有机EL用掩模上的状态下照射激光，使剥离下的蒸镀物质转移到薄膜上。然后，把转移了有机材料的薄膜从有机EL用掩模上剥离下来，由此完成了清洁工序。

如前所述，有机EL用掩模是极薄的金属板，即使极微小的力作用在其上，也会造成扭曲、变形等的损伤。而且，近年来，随着有机EL显示器的大画面化，有机EL用掩模的尺寸也增大，对大而极薄的有机EL用掩模的处理必须极为细致。在专利文献1的技术中，从有机EL用掩模上剥离薄膜时，要抵抗粘着力地进行剥离，所以，过度的力作用在有机EL用掩模上。结果，对有机EL用掩模造成很大的损伤。

即，在专利文献1中，虽然是利用激光把有机材料从有机EL用掩模上剥离下来，但是，为了除去剥离后的有机材料，要使薄膜与有机EL用掩模接触，结果，并不是以非接触状态完成清洁。另外，作为薄膜，虽然是采用激光透过的材料（聚对苯二甲酸乙二醇酯），但是，即使采用具有透过性的薄膜，激光也产生衰减。因此，不能对有机EL用掩模赋于足够的能量，不能发挥高的清洁效果。另外，进行薄膜的粘贴和剥离需要专用机构，存在着机构复杂化以及导致装置大型化的问题。尤其是，如果有机EL用掩模是大型的尺寸时，薄膜的尺寸也是大型的，因此，机构的复杂化、装置的大型化问题更加严重。

为此，本发明的目的是，在进行将附着在有机EL用掩模的蒸镀物除去的清洁时，对基板以完全非接触状态，将蒸镀物除去。